題目列表(包括答案和解析)
4.根據(jù)所學(xué)知識(shí),下列有關(guān)膠體的說(shuō)法中正確的是英才苑
A.將飽和的FeCl3溶液加熱至沸,制得Fe(OH)3膠體
B.將磁性物質(zhì)制成膠體離子作為藥物的載體,可在磁場(chǎng)作用下送到病灶
C.化工生產(chǎn)上可利用丁達(dá)爾效應(yīng)將油漆粒子均勻地沉積在鍍件上
D.將蔗糖溶于溶解在酒精中,則可形成膠體
3.下列有關(guān)說(shuō)法正確的是
A.CaCl2、聚苯乙烯、HD均為化合物
B.CH2O2、C3H6O2、C4H8O2互為同系物
C.明礬、冰醋酸、硫酸鋇均為電解質(zhì)
D.SiO2、NaCl、S8、Cu均能表示物質(zhì)分子組成
2.廣東北江曾發(fā)生嚴(yán)重的水體鎘污染事件,專家確定用1200噸的聚合鐵{簡(jiǎn)稱PFS,化學(xué)式為:[Fe2(OH)n(SO4)(3-n)/2]m,n<5,m<10}分批加入,利用PFS在水體中形成絮狀物,以吸附鎘離子。結(jié)合題中信息,下列說(shuō)法正確的是
A.Cd核素原子中的電子數(shù)為48,中子數(shù)為60
B.含鎘廢電池含鎘量很少,無(wú)需進(jìn)行回收處理
C.PFS是鐵顯十2價(jià)的一種堿式硫酸鹽聚合物
D.實(shí)驗(yàn)室可通過(guò)FeSO4溶液水解和聚合制PFS
1.下列化學(xué)用語(yǔ)表達(dá)正確的是
A.S2-的結(jié)構(gòu)示意圖: B.乙炔的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式CHCH
C.NaCl的電子式: D.硝基苯的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)式:
26.(12分)室溫下,CO2和NO的混合氣體共10L,其中NO占的體積分?jǐn)?shù)為a。將此混合氣體通過(guò)足量的Na2O2之后,所得氣體再用排水法收集。討論當(dāng)a取不同范圍的值時(shí),最終收集到的氣體的成份及其體積。
25.(12分)將一定質(zhì)量的金屬鈉和一定質(zhì)量的氧氣在一密閉容器中加熱反應(yīng),冷卻后取殘留固體加入過(guò)量水中,CY放出0.336L氣體(標(biāo)況),將此氣體點(diǎn)燃恢復(fù)到標(biāo)況下無(wú)氣體剩余。所得的水溶液加入0.5mol·L-1的稀硫酸80mL,恰好溶液呈中性。求:
(1)與氧氣反應(yīng)前金屬鈉的質(zhì)量;
(2)鈉與氧氣反應(yīng)的殘留固體的成分及質(zhì)量。
24.(6分)多硫化物S(x的數(shù)值在2-6之間)在堿性溶液中被BrO氧化為SO,而B(niǎo)rO被還原為Br-,在反應(yīng)中消耗BrO和OH-的物質(zhì)的量之比為2 : 3,則 ( )
(1)X的值為 ;
(2)反應(yīng)的離子方程式為 ;
(3)此反應(yīng)的還原劑與氧化劑物質(zhì)的量之比是 。
23.(12分)從固體物質(zhì)A開(kāi)始,可以發(fā)生如下框圖所示的一系列變化:
回答下列問(wèn)題:
(1)A的化學(xué)式是 。
(2)在實(shí)驗(yàn)室中收集氣體B的方法是 。
(3)操作①的名稱是 ,在操作①中所要使用的玻璃儀器有 (填名稱)。
(4)寫(xiě)出反應(yīng)②和反應(yīng)③的化學(xué)方程式:
反應(yīng)②: ;
反應(yīng)③: 。
(5)在實(shí)驗(yàn)室中,如要獲得干燥純凈的氣體D,
可以將它通過(guò)如圖的裝置,其中瓶I中盛
放的試劑 ,瓶II中盛放的試劑
劑是 ,收集干燥氣體D的方
法是 。
22.(8分)在一定條件下,下列各物質(zhì)可發(fā)生如圖所示的變化(反應(yīng)中生成的水沒(méi)有寫(xiě)出)
請(qǐng)回答:
(1)固體A是(寫(xiě)化學(xué)式) ;
(2)反應(yīng)(I)的離子方程式 ;
(3)反應(yīng)(II)的化學(xué)方程式 ;
(4)在標(biāo)準(zhǔn)狀況下,H呈 態(tài)(填固、液或氣),它和溶液B反應(yīng)的離子方程式是
。
21.(13分)硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:
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(Ⅱ)粗硅與干燥HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3:Si+3HCl SiHCl3+H2
(Ⅲ)SiHCl3與過(guò)量H2在1000-1100℃反應(yīng)制得純硅
已知SiHCl3能與H2O強(qiáng)烈反應(yīng),在空氣中易自燃。請(qǐng)回答下列問(wèn)題:
(1)第①步制備粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為 。
(2)粗硅與HCl反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)為33.0℃)中含有少量SiCl4(沸點(diǎn)為57.6℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7℃),提純SiHCl3采用方法的名稱為 。
(3)用純SiHCl3與過(guò)量純H2反應(yīng)制備純硅的裝置如下(此裝置氣密性已檢驗(yàn),藥品已添加,且熱源及夾持裝置略去):
①裝置B中的試劑號(hào) ,它的作用是 和 。
②A和C裝置中都含有分液漏斗,實(shí)驗(yàn)時(shí)應(yīng)先滴入 (填A(yù)或C)處分液漏斗內(nèi)的液體藥品,目的是 。
③裝置C中的燒瓶需要水浴加熱,此處的加熱溫度需高于 ℃。裝置D不能采用普通玻璃管,且需用酒精噴燈加熱,此處的加熱溫度需高于 ℃。實(shí)驗(yàn)時(shí)應(yīng)先加熱 (填C或D)處,原因是 。
④為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及控制好 ,若該因素不合要求,應(yīng)怎樣改進(jìn)?具體的操作是 。
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