一個質(zhì)量可不計的活塞將一定量的理想氣體封閉在上端開口的直立圓筒形氣缸內(nèi),活塞上堆放著鐵砂,如圖14所示.最初活塞擱置在氣缸內(nèi)壁的固定卡環(huán)上,氣體柱的高度為H0,壓強等于大氣壓強p.現(xiàn)對氣體緩慢加熱,當氣體溫度升高了△T=60K時,活塞開始離開卡環(huán)而上升.繼續(xù)加熱直到氣柱高度為H1=1.5H0.此后,在維持溫度不變的條件下逐漸取走鐵砂,直到鐵砂全部取走時,氣柱高度變?yōu)镠2=1.8H0,求此時氣體的溫度.(不計活塞與氣缸之間的摩擦) 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

一個質(zhì)量可不計的活塞將一定量的理想氣體封閉在上端開口的直立圓筒形氣缸內(nèi),活塞上堆放著鐵砂,如圖14-2-9所示,最初活塞擱置在氣缸內(nèi)壁的固定卡環(huán)上,氣體柱的高度為H0,壓強等于大氣壓強p0.現(xiàn)對氣體緩慢加熱,當氣體溫度升高了ΔT=60 K時,活塞(及鐵砂)開始離開卡環(huán)而上升,繼續(xù)加熱直到氣柱高度為H1=1.5H0.此后,在維持溫度不變的條件下逐漸取走鐵砂,直到鐵砂全部取走時,氣柱高度變?yōu)镠2=1.8H0,求此時氣體的溫度 .(不計活塞與氣缸之間的摩擦)

圖14-2-9

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一個質(zhì)量可不計的活塞將一定量的理想氣體封閉在上端開口的直立圓筒形氣缸內(nèi),活塞上堆放著鐵砂,如圖所示.最初活塞擱置在氣缸內(nèi)壁的固定卡環(huán)上,氣體柱的高度為H0,溫度為T0,壓強等于外界的大氣壓強p0,F(xiàn)對氣體緩慢加熱,當氣體溫度升高了△T時,活塞(及鐵砂)開始離開卡環(huán)而上升.繼續(xù)加熱直到氣柱高度為H1 = 1.5H0.不計活塞與氣缸之間的摩擦。求:

(1)活塞剛離開卡環(huán)時氣體的壓強p1;

(2)氣柱高度為H1時的溫度T1。

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(10分)一個質(zhì)量可不計的活塞將一定量的理想氣體封閉在上端開口的直立圓筒形氣缸內(nèi),活塞上堆放著鐵砂,如圖所示.最初活塞擱置在氣缸內(nèi)壁的固定卡環(huán)上,氣體柱的高度為H0,溫度為T0,壓強等于外界的大氣壓強p0,F(xiàn)對氣體緩慢加熱,當氣體溫度升高了△T時,活塞(及鐵砂)開始離開卡環(huán)而上升.繼續(xù)加熱直到氣柱高度為H1 = 1.5H0.不計活塞與氣缸之間的摩擦。求:

(1)活塞剛離開卡環(huán)時氣體的壓強p1;

(2)氣柱高度為H1時的溫度T1。

 

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(10分)一個質(zhì)量可不計的活塞將一定量的理想氣體封閉在上端開口的直立圓筒形氣缸內(nèi),活塞上堆放著鐵砂,如圖所示.最初活塞擱置在氣缸內(nèi)壁的固定卡環(huán)上,氣體柱的高度為H0,溫度為T0,壓強等于外界的大氣壓強p0,F(xiàn)對氣體緩慢加熱,當氣體溫度升高了△T時,活塞(及鐵砂)開始離開卡環(huán)而上升.繼續(xù)加熱直到氣柱高度為H1 = 1.5H0.不計活塞與氣缸之間的摩擦。求:

(1)活塞剛離開卡環(huán)時氣體的壓強p1;
(2)氣柱高度為H1時的溫度T1。

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(10分)一個質(zhì)量可不計的活塞將一定量的理想氣體封閉在上端開口的直立圓筒形氣缸內(nèi),活塞上堆放著鐵砂,如圖所示.最初活塞擱置在氣缸內(nèi)壁的固定卡環(huán)上,氣體柱的高度為H0,溫度為T0,壓強等于外界的大氣壓強p0。現(xiàn)對氣體緩慢加熱,當氣體溫度升高了△T時,活塞(及鐵砂)開始離開卡環(huán)而上升.繼續(xù)加熱直到氣柱高度為H1 = 1.5H0.不計活塞與氣缸之間的摩擦。求:

(1)活塞剛離開卡環(huán)時氣體的壓強p1;

(2)氣柱高度為H1時的溫度T1。

 

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