9．下列說法正確的是（　�。�

	A．	常溫常壓下，22.4L CO2中含有NA個CO2分子
	B．	標(biāo)準(zhǔn)狀況下，4.48L CO含有0.2NA個原子
	C．	22.4L Cl2中含有NA個Cl2分子
	D．	標(biāo)準(zhǔn)狀況下，1.12L O2和1.12L CO2均含有0.1NA個氧原子

8．根據(jù)下列條件能否確定烴或烴的含氧衍生物的分子式（填能或不能）．
（1）組成有機物的各元素的質(zhì)量分數(shù)不能；
（2）有機物的相對分子質(zhì)量不能；
（3）每摩有機物完全燃燒生成CO₂和H₂O的物質(zhì)的量不能；
（4）每摩有機物完全燃燒耗氧量不能．
若將上述條件兩兩組合起來可有多少組合能確定有機物的分子式？

7．下列有關(guān)氣體摩爾體積的描述中正確的是（　�。�

	A．	在一定溫度和壓強下，單位物質(zhì)的量的氣體所占的體積就是氣體摩爾體積
	B．	在0℃，1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下的氣體摩爾體積約為22.4L
	C．	標(biāo)準(zhǔn)狀況下，1mol酒精的體積約為22.4L
	D．	相同物質(zhì)的量的氣體，其體積也相同

6．已知某“84消毒液”瓶體部分標(biāo)簽如圖1所示，該“84消毒液”通常稀釋100倍（體積之比）后使用．請回答下列問題：
（1）該“84消毒液”的物質(zhì)的量濃度約為4.0mol•L^-1；
（2）某同學(xué)取100mL該“84消毒液”，稀釋后用于消毒，稀釋后的溶液中c（NaClO）=0.04mol•L^-1；
（3）該同學(xué)參閱該“84消毒液”的配方，欲用NaClO固體配制480mL含NaClO質(zhì)量分數(shù)為25%的消毒液．下列說法正確的是C（填序號）
A．如圖2所示的儀器中，有三種是不需要的
B．容量瓶用蒸餾水洗凈后，應(yīng)烘干后才能用于溶液配制
C．配制過程中，未用蒸餾水洗滌燒杯和玻璃棒可能導(dǎo)致結(jié)果偏低
D．需要稱量NaClO固體的質(zhì)量為142.8g
（4）“84消毒液”與稀硫酸混合使用可增強消毒能力，某消毒小組人員用98%（密度為1.84g•cm^-3）的濃硫酸配制2000mL 2.3mol•L^-1的稀硫酸用于增強“84消毒液”的消毒能力．
①所配制的稀硫酸中，H⁺的物質(zhì)的量濃度為4.6mol•L^-1；
②需用濃硫酸的體積為250mL．

5．在0.5mol Na₂SO₄中，含有的氧原子個數(shù)約為（　　）

A．

1.204×1024

B．

0.5

C．

6.02×1023

D．

3.01×1023

4．3.01×10²³個CO₂的物理量還可以是（　�。�
①11.2L ②0.5mol ③1.5mol ④22g．

A．

①②

B．

①②④

C．

①④

D．

②④

3．某溶液中含有Na⁺、Cl^-、K⁺、SO₄^2-四種離子，測得溶液中Na⁺、K⁺和SO₄^2-的濃度分別為2mol•L^-1 、2mol•L^-1 和1mol•L^-1 ，則溶液c（Cl^-）中為（　　）

A．

2mol•L-1

B．

0.5mol•L-1

C．

1.5mol•L-1

D．

1mol•L-1

2．100mL溶液中溶有0.1mol HCl和0.1mol AlCl₃ ，則該溶液中Cl^-的物質(zhì)的量濃度為4mol/L．

1．25℃時，向20mL0.2mo•lL^-1HR溶液中逐漸滴入0.2mol•L^-1NaOH溶液，得到如圖的滴定曲線．下列粒子濃度的關(guān)系式錯誤的是（　　）

	A．	點①溶液中，c（HR）+2c（H+）=c（R-）+2c（OH-）
	B．	點②溶液中，c（Na+）=c（HR）+c（R-）
	C．	點③溶液中，c（Na+）＞c（R-）＞（OH-）＞c（H+）
	D．	滴定過程中可能會出現(xiàn)，c（HR）＞c（R-）＞（H+）＞c（Na+）

20．工業(yè)上硅有多種生產(chǎn)路線，其中一種生產(chǎn)高純硅的工藝流程示意圖如圖：

已知：①流化床反應(yīng)器中的主反應(yīng)：Si+3HCl$\frac{\underline{\;250-300℃\;}}{\;}$SiHCl₃+H₂；
②還原爐中的主反應(yīng)：SiHCl₃+H₂$\frac{\underline{\;1100-1200℃\;}}{\;}$Si+3HCl；
③SiHCl₃極易水解：SiHCl₃+3H₂O═H₂SiO₃+H₂↑+3HCl↑．
（1）電弧爐中生成單質(zhì)硅的化學(xué)方程式為SiO₂+2C $\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$Si+2CO↑．若焦炭過量，則造成的不利后果是SiO₂+3C$\frac{\underline{\;高溫\;}}{\;}$SiC+2CO↑．
（2）電弧爐中已經(jīng)得到單質(zhì)硅，但仍要進行后續(xù)操作的目的是粗硅提純．
（3）整個操作流程都要隔絕空氣，原因是硅在高溫下與氧氣反應(yīng)生成二氧化硅（寫出一條即可）．
（4）上述操作流程中可以循環(huán)利用的物質(zhì)是氯化氫．所用氯化氫可由氯堿工業(yè)提供，假定生產(chǎn)過程無損傷，也沒有副反應(yīng)發(fā)生，則生產(chǎn)1t高純硅，理論上需要2.1t（精確到0.1）NaCl，即可實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn)．