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(16分)
(1)下圖為實驗室制備、收集少量HCl的裝置。

①制備HCl所用藥品為濃硫酸和濃鹽酸,則甲的最佳裝置應選用下圖中的       。

② 請解釋能用濃硫酸和濃鹽酸制備HCl氣體的原因                              。
③ 裝置丙用來吸收過量的HCl氣體,為防止倒吸,則燒杯中應該裝入水和          。
(2)以下為苯的取代反應的探究實驗。

① 按上圖所示的裝置圖連接好各儀器。
② 檢驗裝置的氣密性。
③ 在A中加入適量的苯和液溴的混合液體,在B中加入少量鐵粉,塞上橡皮塞,打開K1,開始進行反應,放入適量混合液后,關閉K1。
寫出B中發(fā)生反應的化學方程式                                             
裝置C的作用是                           。
④ 反應結束后,用試管取少量D中的溶液,加入                                     
(描述試劑和現(xiàn)象),則證明B中的取代反應已經發(fā)生。
⑤ 把B中的固液混合物體過濾,分離出液體混合物,按下圖方案精制含有苯和溴的溴苯。
其中試劑為           ,操作名稱為          。

(16分,每空2分)
(1)① c
② 濃硫酸具有強吸水性,吸收了濃鹽酸中的水,同時放出大量的熱,促進了HCl氣體的揮發(fā),所以可以用濃硫酸和濃鹽酸制備HCl氣體
③ CCl4
(2)③
吸收溴和苯的蒸氣。
④ 少量AgNO3溶液,如果有淡黃色沉淀生成。
⑤ NaOH溶液(或者Na2SO3溶液等合理答案) 、 分液、蒸餾

解析試題分析:(1)①利用濃硫酸與水混合時放熱及濃鹽酸的揮發(fā)性制取少量氯化氫,不需加熱,所以選擇c裝置;
②利用了濃硫酸和濃鹽酸的特性,濃硫酸具有強吸水性,吸收了濃鹽酸中的水,同時放出大量的熱,促進了HCl氣體的揮發(fā),所以可以用濃硫酸和濃鹽酸制備HCl氣體;
③為防止倒吸,除加入水外,還應加入比水密度大且氯化氫不溶于其中的液體物質,所以選擇CCl4;
(2)③B中發(fā)生苯與溴在催化劑的作用下生成溴苯的反應,化學方程式為
溴與苯都易揮發(fā),C中盛放四氯化碳,所以作用是吸收揮發(fā)的溴和苯的蒸汽;
④揮發(fā)的溴被C吸收,所以弱發(fā)生取代反應,則無機產物是溴化氫,溴化氫不溶于四氯化碳溶于水,所以若發(fā)生了取代反應,則D中有溴化氫存在,加入少量AgNO3溶液,會有淡黃色沉淀生成。
⑤粗溴苯中含有溴、苯雜質,所以應除去,加入氫氧化鈉溶液可除去溴,此時溶液分層,分液后的油層中含苯和溴苯,再蒸餾可得溴苯。
考點:考查濃硫酸的吸水性、濃鹽酸的揮發(fā)性的應用,溴苯的制取,化學方程式的書寫,物質的除雜

練習冊系列答案
相關習題

科目:高中化學 來源: 題型:單選題

下列塊狀金屬在常溫下能全部溶于足量的濃硝酸的是

A.Au B.Cu C.Fe D.Al

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科目:高中化學 來源: 題型:單選題

下列陳述正確并且有因果關系的是(  )

選項
陳述Ⅰ
陳述Ⅱ
A
SO2有漂白性
SO2可使溴水褪色
B
SiO2有導電性
SiO2可用于制備光導纖維
C
濃硫酸有強氧化性
濃硫酸可用于干燥H2和CO
D
Fe3+有強氧化性
FeCl3溶液可用于回收廢舊電路板中的銅

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科目:高中化學 來源: 題型:填空題

(14分)由A、D、E、G四種微粒組成的復鹽W的化學式為xAaDd·yE2D·zG。4.704gW溶于水得一澄清的弱酸性溶液,其中溶質總量為3.408g。同質量的W與5.13g氫氧化鋇充分混勻后加熱,生成的氣體以足量鋁鹽溶液充分吸收得Al(OH)3 0.624g,加熱后的殘渣用水充分溶解后過濾,濾液以酚酞為指示劑用0.400mol/L H2SO4滴定至終點,用去H2SO4 15.0mL,滴定完畢后,溶液中檢測不出任何金屬離子和酸根離子;濾渣用硝酸洗滌時部分溶解,得一遇石炭酸顯紫色的黃色溶液,依據推理和計算判斷:
(1)依次寫出D、E、G三種微粒符號________、_______、_________;
(2)a、d的比值為_________;
(3)復鹽的化學式為________。(寫出計算步驟)

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科目:高中化學 來源: 題型:填空題

(12分)為研究鐵質材料與熱濃硫酸的反應,某學習小組用碳素鋼(即鐵和碳的合金)進行了以下探究活動:
[探究一](1)將已去除表面氧化物的鐵釘(碳素鋼)放入冷濃硫酸中,10分鐘后移入硫酸銅溶液中,片刻后取出觀察,鐵釘表面無明顯變化,其原因是                     
(2)稱取碳素鋼6.0 g放入15.0 mL濃硫酸中,加熱,充分反應后得到溶液X并收集到混合氣體Y。
①甲同學認為X中除Fe3之外還可能含有Fe2。若要確認其中的Fe2,應選用     (選填序號)。
A.KSCN溶液和氯水                B.鐵粉和KSCN溶液
C.濃氨水                        D.酸性KMnO4溶液
②乙同學取560 mL(標準狀況)氣體Y通入足量溴水中,然后加入足量BaCl2溶液,經適當操作后得干燥固體4.66 g。由此推知氣體Y中SO2的體積分數為       
[探究二]根據上述實驗中SO2體積分數的分析,丙同學認為氣體Y中還可能含有Q1和Q2兩種氣體,其中Q1氣體,在標準狀況下,密度為0.0893 g·L-1。為此設計了下列探究實驗裝置(假設有關氣體完全反應)。

(3)裝置B中試劑的作用是                       。
(4)分析Y氣體中的Q2氣體是如何生成的             (用化學方程式表示)。
(5)已知洗氣瓶M中盛裝澄清石灰水,為確認Q2的存在,需在裝置中添加洗氣瓶M于   (填序號)。
A.A之前               B.A—B間
C.B—C間               D.C—D間
(6)如果氣體Y中含有Q1,預計實驗現(xiàn)象應是                   。

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科目:高中化學 來源: 題型:填空題

為了驗證木炭可被濃H2SO4氧化成CO2,選用下圖所示儀器(內含物質)組裝成實驗裝置:

(1)如按氣流由左向右流向,連接上述裝置的正確順序是(填各接口字母):
             ,              ,              
(2)儀器乙、丙應有怎樣的實驗現(xiàn)象才表明已檢驗出CO2?
乙中                         ____ ,丙中                  ______   
(3)丁中酸性KMnO4溶液的作用是                                      ;
(4)寫出甲中反應的化學方程式                                          。

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科目:高中化學 來源: 題型:填空題

(15分)二氧化硫是重要的工業(yè)原料,探究其制備方法和性質具有非常重要的意義。

(1)實驗室用圖1裝置測定SO2催化氧化為SO3的轉化率。(已知SO3熔點為16.8℃,假設氣體進入裝置時分別被完全吸收,且忽略空氣中CO2的影響。)
①簡述使用分液漏斗向圓底燒瓶中滴加濃硫酸的操作:                 
②實驗過程中,需要通入氧氣。試寫出一個用如圖2所示裝置制取氧氣的化學方程式:        
③當停止通入SO2熄滅酒精燈后,需要繼續(xù)通一段時間的氧氣,其目的是:        。
④實驗結束后,若裝置D增加的質量為mg,裝置E中產生白色沉淀的質量為ng,則此
條件下二氧化硫的轉化率是          (用含字母的代數式表示,不用化簡)。
(2)某學習小組設計用如圖3裝置驗證二氧化硫的化學性質。
①能說明二氧化硫具有氧化性的實驗現(xiàn)象為:                          
②為驗證二氧化硫的還原性,充分反應后,取試管b中的溶液分三份,分別進行如下實驗。
方案I:向第一份溶液中加入AgNO3溶液,有白色沉
淀生成。
方案II:向第二份溶液中加入品紅溶液,紅色褪去。
方案III:向第三份溶液中加入BaC12溶液,產生白色沉淀
上述方案中合理的是       (填“I”、“II”、或“III”);
試管b發(fā)生反應的離子方程式:      
③當通入二氧化硫至試管c中溶液顯中性時,該溶液中
c(Na+)=                 用含硫微粒濃度的代數式表示)。

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科目:高中化學 來源: 題型:填空題

運送“神舟五號”飛船的火箭燃料除液態(tài)雙氧水外,還有另一種液態(tài)氮氫化合物。已知該化合物中氫元素的質量分數為12. 5%,相對分子質量為32,結構分析發(fā)現(xiàn)該分子結構中只有單鍵。
(1)該氮氫化合物的電子為                   。
(2)若該物質與液態(tài)雙氧水恰好完全反應,產生兩種無毒又不污染環(huán)境的氣態(tài)物質,寫出該反應的化學方程式                                                。
(3)NH3分子中的N原子有一對孤對電子,能發(fā)生反應:NH3+HCl=NH4Cl。試寫出上述氮氫化合物通入足量鹽酸時,發(fā)生反應的化學方程式                                    

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科目:高中化學 來源: 題型:填空題

硅單質及其化合物應用很廣。請回答下列問題:
(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)還原法是當前制備高純硅的主要方法,生產過程示意圖如下:

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式____________________。
②整個制備過程必須嚴格控制無水、無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質,寫出配平的化學反應方程式____________________;H2還原SiHCl3過程中若混有O2,可能引起的后果是____________________。
(2)下列有關硅材料的說法正確的是   (  )。
A.單質硅化學性質穩(wěn)定,但可以被強堿溶液腐蝕
B.鹽酸可以與硅反應,故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點很高
D.光導纖維的主要成分是SiO2
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入鹽酸,振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋(用化學方程式說明)_________________________ ____。
(4)在人體器官受到損傷時,需要使用一種新型無機非金屬材料來植入體內,這種材料是________(填字母)。
A.高溫結構陶瓷     B.生物陶瓷      C.導電陶瓷

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