Question

【題目】工業(yè)上高純硅可以通過(guò)下列反應(yīng)制�。�SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g)-236kJ，完成下列填空：

（1）在一定溫度下進(jìn)行上述反應(yīng)，若反應(yīng)容器的容積為 2L，經(jīng) 3min 后達(dá)到平衡，獲得固體的質(zhì)量 8.4 g，則用 H2 表示的平均反應(yīng)速率為_________。

（2）該反應(yīng)的平衡常數(shù)表達(dá)式 K=_________，若欲使 K 增大，可采取的措施是_________。

（3）一定條件下，在密閉恒容容器中，能表示上述反應(yīng)一定達(dá)到化學(xué)平衡狀態(tài)的是_________。

a.2v 逆（SiCl4）=v 正（H2） b.斷開(kāi) 4mol Si-Cl 鍵的同時(shí)，生成 4mol H-Cl 鍵

c．混合氣體密度保持不變 d．c（SiCl4）：c（H2）：c（HCl）=1：2：4

（4）若反應(yīng)過(guò)程如圖所示，縱坐標(biāo)表示氫氣、氯化氫的物質(zhì)的量（mol），橫坐標(biāo)表示時(shí)間（min），若整個(gè)反應(yīng)過(guò)程沒(méi)有加入或提取各物質(zhì)，則第 1.5 分鐘v(正) ____ v(逆)(填><或=)，第 3 分鐘改變的條件是_______，各平衡態(tài)中氫氣轉(zhuǎn)化率最小的時(shí)間段是_______。

Answer 1

【答案】0.1 mol/(L·min) 升溫 ac > 升溫 1-1.5min

【解析】

（1）根據(jù)反應(yīng)SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g)，獲得固體的質(zhì)量 8.4 g，該固體為硅單質(zhì)，即生成=0.3mol硅單質(zhì)需要?dú)錃?/span>0.6mol，則用 H2 表示的平均反應(yīng)速率為=0.1 mol/(L·min)，

答案為：0.1 mol/(L·min)；

（2）根據(jù)反應(yīng)SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g) -236kJ，據(jù)化學(xué)方程式和平衡常數(shù)的概念計(jì)算得到平衡常數(shù)K=；反應(yīng)是吸熱反應(yīng)升溫反應(yīng)正向進(jìn)行，平衡常數(shù)增大，

答案為：；升溫；

（3）在密閉恒容容器中，SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g)
a．依據(jù)化學(xué)反應(yīng)速率之比等于化學(xué)方程式系數(shù)之比，2v正（SiCl4）=v正（H2）所以 2v逆（SiCl4）=v正（H2）說(shuō)明四氯化硅正逆反應(yīng)速率相同，證明反應(yīng)達(dá)到平衡，故a正確；

b．?dāng)嚅_(kāi)4mol Si-Cl鍵的同時(shí)，生成4mol H-Cl鍵，表示的是反應(yīng)正向進(jìn)行，故b錯(cuò)誤；

c．正向進(jìn)行氣體質(zhì)量減小，氣體體積不變，混合氣體密度保持不變，證明反應(yīng)達(dá)到平衡，故c正確；

d．c(SiCl4)：c(H2)：c(HCl)=1：2：4，反應(yīng)過(guò)程中符合化學(xué)方程式的系數(shù)之比，不能判斷反應(yīng)達(dá)到平衡，故d錯(cuò)誤；

故答案為：ac；

（4）分析圖象可知第1.5分鐘，氫氣減小，氯化氫增大，改變的條件是減少壓強(qiáng)平衡正向進(jìn)行，v(正) >v(逆)；第3分鐘曲線(xiàn)變化斜率大，反應(yīng)速率大，反應(yīng)正向進(jìn)行，反應(yīng)是吸熱反應(yīng)，改變的條件是升溫；由圖像可得，1-1.5min，平衡不移動(dòng)，氫氣轉(zhuǎn)化率最小，

故答案為：>，升溫，1-1.5min；