Question

【題目】二氧化氯（ClO2）可用于自來水消毒。以粗鹽為原料生產ClO2的工藝主要包括：

①反應I是粗鹽除雜；

②反應II是特殊條件下電解NaCl溶液制NaClO3；

③反應Ⅲ是ClO2的制取。其中反應Ⅲ制取ClO2的化學方程式為：2NaClO3+4HCl═2ClO2↑+Cl2↑+2NaCl+2H2O。

工藝流程如圖，

（1）加入過量氫氧化鈉的目的是__________________________。

（2）過量的試劑X是_______（填化學式），操作A的名稱是_____________。

（3）寫出反應I中的一個反應方程式______________________________。

（4）加入適量HCl除為了滿足電解時的微酸性外，還能除去溶液中的雜質離子，請寫出其中所發(fā)生的中和反應的化學方程式：_____________。

（5）該流程中可循環(huán)利用的物質是水和___________。

Answer 1

【答案】 除盡氯化鎂雜質 Na2CO3 過濾 Na2CO3 + CaCl2 = CaCO3↓ + 2NaCl HCl+NaOH=NaCl+H2O NaCl

【解析】（1）氫氧化鈉和氯化鎂反應生成氫氧化鎂沉淀和氯化鈉，加入過量氫氧化鈉的目的是除盡氯化鎂雜質，（2）由操作A得到的沉淀有碳酸鈣，可知過量的試劑X是Na2CO3，和氯化鈣反應生成碳酸鈣沉淀和氯化鈉，操作A的作用是將難溶性固體與液體分離，名稱是過濾；（3）反應I中的反應方程式Na2CO3 + CaCl2 = CaCO3↓ + 2NaCl； （4）在除雜過程中，溶液中引入了氫氧化鈉和碳酸鈉雜質，加入適量HCl能將氫氧化鈉和碳酸鈉轉化成氯化鈉達到除雜的目的，其中氫氧化鈉和鹽酸發(fā)生的是中和反應，反應的化學方程式：HCl+NaOH=NaCl+H2O；（5）該流程中可循環(huán)利用的物質是水和NaCl。