題目列表(包括答案和解析)
工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g) △H=+QkJ·mol-1(Q>0),某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器中進(jìn)行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述正確的是
A.反應(yīng)過程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率 |
B.當(dāng)反應(yīng)吸熱為0.025QkJ時,生成的HCl與100mL1mol·L-1的NaOH溶液恰好反應(yīng) |
C.反應(yīng)至4min時,若HCl的濃度為0.12mol·L-1,則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min) |
D.若反應(yīng)開始時SiCl4為1mol,則達(dá)到平衡時,吸收熱量為QkJ |
工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g) △H=+QkJ·mol-1(Q>0),某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器中進(jìn)行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述正確的是
A.反應(yīng)過程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率
B.當(dāng)反應(yīng)吸熱為0.025QkJ時,生成的HCl與100mL1mol·L-1的NaOH溶液恰好反應(yīng)
C.反應(yīng)至4min時,若HCl的濃度為0.12mol·L-1,則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)
D. 若反應(yīng)開始時SiCl4為1mol,則達(dá)到平衡時,吸收熱量為QkJ
工業(yè)上制備純硅反應(yīng)的熱化學(xué)方程式如下:SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g) △H=+QkJ·mol-1(Q>0),某溫度、壓強(qiáng)下,將一定量的反應(yīng)物通入密閉容器中進(jìn)行以上的反應(yīng)(此條件下為可逆反應(yīng)),下列敘述正確的是
A.反應(yīng)過程中,若增大壓強(qiáng)能提高SiCl4的轉(zhuǎn)化率
B.當(dāng)反應(yīng)吸熱為0.025QkJ時,生成的HCl與100mL1mol·L-1的NaOH溶液恰好反應(yīng)
C.反應(yīng)至4min時,若HCl的濃度為0.12mol·L-1,則H2的反應(yīng)速率為0.03mol/(L·min)
D. 若反應(yīng)開始時SiCl4為1mol,則達(dá)到平衡時,吸收熱量為QkJ
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