如圖所示，平行金屬導(dǎo)軌與水平面成θ角，導(dǎo)軌與固定電阻R₁和R₂相連，勻強(qiáng)磁場垂直穿過導(dǎo)軌平面。有一導(dǎo)體棒ab，質(zhì)量為m，導(dǎo)體棒的電阻與固定電阻R₁和R₂的阻值均相等，與導(dǎo)軌之間的動(dòng)摩擦因數(shù)為μ，導(dǎo)體棒ab沿導(dǎo)軌向上滑動(dòng)，當(dāng)上滑的速度為v時(shí)，受到安培力的大小為F。此時(shí)（   ）

A．電阻R₁消耗的熱功率為Fv／3

B．電阻R₁消耗的熱功率為 Fv／6

C．整個(gè)裝置因摩擦而消耗的熱功率為μmgvcosθ

D．整個(gè)裝置消耗的機(jī)械功率為（F＋μmgcosθ）v

（06年上海卷）如圖所示，平行金屬導(dǎo)軌與水平面成θ角，導(dǎo)軌與固定電R₁ 和 R₂ 相連，勻強(qiáng)磁場垂直穿過導(dǎo)軌平面。有一導(dǎo)體棒 ab，質(zhì)量為 m，導(dǎo)體棒的電阻與固定電阻 R₁ 和 R₂ 的阻值均相等，與導(dǎo)軌之間的動(dòng)摩擦因數(shù)為μ，導(dǎo)體棒 ab 沿導(dǎo)軌向上滑動(dòng)，當(dāng)上滑的速度為 V 時(shí)，受到安培力的大小為 F。此時(shí)（   ）

（A）電阻 R₁消耗的熱功率為 Fv／3

（B）電阻 R₂ 消耗的熱功率為 Fv／6

（C）整個(gè)裝置因摩擦而消耗的熱功率為 μmgvcosθ

（D）整個(gè)裝置消耗的機(jī)械功率為（F＋μmgcosθ）v

如圖所示，平行金屬導(dǎo)軌與水平面成θ角，導(dǎo)軌與固定電阻R₁和R₂相連，勻強(qiáng)磁場垂直穿過導(dǎo)軌平面．有一導(dǎo)體棒ab，質(zhì)量為m，導(dǎo)體棒的電阻與固定電阻R₁和R₂的阻值均相等，與導(dǎo)軌之間的動(dòng)摩擦因數(shù)為μ，導(dǎo)體棒ab沿導(dǎo)軌向上滑動(dòng)，當(dāng)上滑的速度為v時(shí)，受到安培力的大小為F．此時(shí)

A．電阻R₁消耗的熱功率為Fv／3

B．電阻 R₁消耗的熱功率為 Fv／6

C．整個(gè)裝置因摩擦而消耗的熱功率為μmgvcosθ．

D．整個(gè)裝置消耗的機(jī)械功率為（F＋μmgcosθ）v·

如圖所示，平行金屬導(dǎo)軌與水平面成θ角，導(dǎo)軌與固定電阻R₁和R₂相連，勻強(qiáng)磁場垂直穿過導(dǎo)軌平面。有一導(dǎo)體棒ab，質(zhì)量為m，導(dǎo)體棒的電阻與固定電阻R₁和R₂的阻值均相等，與導(dǎo)軌之間的動(dòng)摩擦因數(shù)為μ，導(dǎo)體棒ab沿導(dǎo)軌向上滑動(dòng)，當(dāng)上滑的速度為v時(shí)，受到安培力的大小為F。此時(shí)（    ）

A．電阻R₁消耗的熱功率為Fv／3               B．電阻R₁消耗的熱功率為 Fv／6

C．整個(gè)裝置因摩擦而消耗的熱功率為μmgvcosθ  D．整個(gè)裝置消耗的機(jī)械功率為（F＋μmgcosθ）v

如圖所示，平行金屬導(dǎo)軌與水平面成θ角，導(dǎo)軌與固定電阻R₁和R₂相連，勻強(qiáng)磁場垂直穿過導(dǎo)軌平面．有一導(dǎo)體棒ab，質(zhì)量為m，導(dǎo)體棒的電阻與固定電阻R₁和R₂的阻值均相等，與導(dǎo)軌之間的動(dòng)摩擦因數(shù)為μ，導(dǎo)體棒ab沿導(dǎo)軌向上滑動(dòng)，當(dāng)上滑的速度為V時(shí)，受到安培力的大小為F．此時(shí)(     )

A. 電阻R₁消耗的熱功率為Fv／3．

B. 電阻R₁消耗的熱功率為Fv／6．

C. 整個(gè)裝置因摩擦而消耗的熱功率為μmgvcosθ．

D. 整個(gè)裝置消耗的機(jī)械功率為（F＋μmgcosθ）v.