15.(2009·山師附中5月考題)實(shí)驗(yàn)室常用30%的H2O2溶液快速制取少量O2. 可采用如下圖所示裝置.試回答: (1)MnO2的作用是 . (2)反應(yīng)的化學(xué)方程式為 . (3)在實(shí)驗(yàn)過程中.除去Ⅰ.Ⅱ.Ⅲ.Ⅳ裝置中的空氣的操作是: . (4)若要在Ⅳ裝置中收集的氣體為干燥的O2.則Ⅱ裝置中應(yīng)盛 (填藥品名 稱).通過 的現(xiàn)象可確定Ⅳ裝置中為干燥的O2. (5)圖中Ⅰ裝置能否用Ⅴ裝置代替? .其理由是 . 解析:實(shí)驗(yàn)?zāi)康氖侵迫∩倭縊2.實(shí)驗(yàn)原理是用MnO2催化H2O2分解.注意基本實(shí)驗(yàn) 操作的規(guī)范性. 答案:2H2O22H2O+O2↑ (3)待Ⅰ裝置中反應(yīng)進(jìn)行一會(huì)兒之后再收集氧氣 (4)濃H2SO4 Ⅲ裝置中無水CuSO4不變藍(lán) (5)否 因?yàn)镸nO2為粉末狀固體.遇H2O2后從隔板的孔中落入到試管底部.此時(shí)反 應(yīng)速率將無法控制.導(dǎo)致試管內(nèi)壓強(qiáng)劇增.大量液體將從漏斗中壓出 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

鐵元素是一種重要的金屬元素,鐵及其化合物間可以相互轉(zhuǎn)化.
(1)檢驗(yàn)溶液中Fe3+存在的試劑是
 
(化學(xué)式),證明 Fe3+存在的現(xiàn)象是溶液變紅.
(2)電子工業(yè)常用30% 的FeCl3溶液腐蝕銅箔,制造印刷電路板.
①寫出FeCl3溶液腐蝕銅箔的離子方程式:
②為了從使用過的腐蝕液中回收銅,并重新獲得FeCl3溶液,準(zhǔn)備采用下列步驟:
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A.寫出上述實(shí)驗(yàn)中加入或生成的有關(guān)物質(zhì)的化學(xué)式:①
 
 
 ④
 

B.寫出含有②的濾液與⑤反應(yīng)的離子方程式
 

(3)實(shí)驗(yàn)室里配制硫酸亞鐵溶液常常加入過量的鐵粉防止其被氧化,純凈的氫氧化亞鐵是白色的沉淀,在空氣中長時(shí)間存放最終會(huì)變?yōu)?!--BA-->
 
色,有關(guān)的化學(xué)方程式為:
 

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電子工業(yè)常用30%的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電路板.廢腐蝕液含有大量CuCl2、FeCl2和FeCl3,任意排放將導(dǎo)致環(huán)境污染及資源的浪費(fèi),應(yīng)考慮回收利用.按如下流程在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行實(shí)驗(yàn):從廢液中回收銅,并將鐵的化合物全部轉(zhuǎn)化為FeCl3溶液,作為腐蝕液原料循環(huán)使用.

(1)寫出FeCl3溶液與銅箔發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式:
2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2
2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2

(2)檢驗(yàn)廢腐蝕液中含有Fe3+的實(shí)驗(yàn)操作是
取少量廢腐蝕液于試管中,滴加幾滴KSCN溶液,溶液變紅色,則證明原溶液中含有Fe3+
取少量廢腐蝕液于試管中,滴加幾滴KSCN溶液,溶液變紅色,則證明原溶液中含有Fe3+

(3)“過濾”用到的玻璃儀器有:普通漏斗、
玻璃棒、燒杯
玻璃棒、燒杯

(4)廢液中加入過量①后,發(fā)生反應(yīng)的離子方程式:
2Fe3++Fe=3Fe2+Cu2++Fe=Fe2++Cu
2Fe3++Fe=3Fe2+Cu2++Fe=Fe2++Cu

(5)上述流程中取廢液200mL,其中含CuCl2 1.5mol?L-1、FeCl2 3.0mol?L-1、FeCl3 1.0mol?L-1,若要將銅全部回收,需加入Fe粉的質(zhì)量應(yīng)不少于
22.4
22.4
g;將鐵的化合物全部轉(zhuǎn)化為FeCl3溶液需通入Cl2的物質(zhì)的量不少于
0.6
0.6
mol.
(6)某化學(xué)興趣小組利用在下圖裝置制取氯氣并通入到FeCl2溶液中獲得FeCl3溶液.

制備Cl2的化學(xué)方程式為:
MnO2+4HCl(濃)
  △  
.
 
MnCl2+Cl2↑+2H2O
MnO2+4HCl(濃)
  △  
.
 
MnCl2+Cl2↑+2H2O

該裝置不完整,請?jiān)谒o虛線框內(nèi)畫出所缺部分,并標(biāo)注試劑.

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學(xué)習(xí)化學(xué)應(yīng)該明確“從生活中來,到生活中去”道理.在生產(chǎn)生活中,我們會(huì)遇到各種各樣的化學(xué)反應(yīng).請你寫出下列反應(yīng)的化學(xué)方程式.(注意反應(yīng)條件并配平)
(1)已知氯化鐵溶液跟銅反應(yīng)生成氯化銅和氯化亞鐵.電子工業(yè)常用30%的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電板
2FeCl3+Cu=CuCl2+2FeCl2
2FeCl3+Cu=CuCl2+2FeCl2

(2)玻璃中含有SiO2,不能用帶磨口玻璃塞的試劑瓶保存堿性溶液的原因
SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O
SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O

(3)胃舒平含有氫氧化鋁,可用來治療胃酸(鹽酸)過多
Al(OH)3+3HCl=AlCl3+3H2O
Al(OH)3+3HCl=AlCl3+3H2O

(4)在高溫下一氧化碳與氧化鐵反應(yīng)可以制得金屬鐵
3CO+Fe2O3
 高溫 
.
 
3CO2+2Fe
3CO+Fe2O3
 高溫 
.
 
3CO2+2Fe

(5)將鐵加入硫酸銅溶液中煉銅(濕法煉銅)
Fe+CuSO4=FeSO4+Cu
Fe+CuSO4=FeSO4+Cu

(6)工業(yè)上用氯氣和消石灰(氫氧化鈣乳濁液)反應(yīng)制取漂白粉(主要成分是氯化鈣和次氯酸鈣)
2Cl2+2Ca(OH)2=CaCl2+Ca(ClO)2+2H2O
2Cl2+2Ca(OH)2=CaCl2+Ca(ClO)2+2H2O

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電子工業(yè)常用30%的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電路板.廢腐蝕液含有大量CuCl2、FeCl2和FeCl3,任意排放將導(dǎo)致環(huán)境污染及資源的浪費(fèi),應(yīng)考慮回收利用.按如下流程在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行實(shí)驗(yàn):從廢液中回收銅,并將鐵的化合物全部轉(zhuǎn)化為FeCl3溶液,作為腐蝕液原料循環(huán)使用.

(1)寫出FeCl3溶液與銅箔發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式:
2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2
2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2

(2)檢驗(yàn)廢腐蝕液中含有Fe3+的實(shí)驗(yàn)操作是
取少量廢腐蝕液于試管中,滴加幾滴KSCN溶液,溶液變紅色,則證明原溶液中含有Fe3+
取少量廢腐蝕液于試管中,滴加幾滴KSCN溶液,溶液變紅色,則證明原溶液中含有Fe3+

(3)“過濾”用到的玻璃儀器有:普通漏斗、
玻璃棒、燒杯
玻璃棒、燒杯

(4)廢液中加入過量①后,發(fā)生反應(yīng)的離子方程式:
2Fe3++Fe=3Fe2+、Cu2++Fe=Fe2++Cu
2Fe3++Fe=3Fe2+、Cu2++Fe=Fe2++Cu

(5)上述流程中取廢液200mL,其中含CuCl2 1.5mol?L-1、FeCl2 3.0mol?L-1、FeCl3 1.0mol?L-1,若要將銅全部回收,需加入Fe粉的質(zhì)量應(yīng)不少于
22.4
22.4
g;將鐵的化合物全部轉(zhuǎn)化為FeCl3溶液需通入Cl2的物質(zhì)的量不少于
0.6
0.6
mol.

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(18分)電子工業(yè)常用30﹪的FeCl3溶液腐蝕敷在絕緣板上的銅箔,制造印刷電路板。廢腐蝕液含有大量CuCl2、FeCl2和FeCl3,任意排放將導(dǎo)致環(huán)境污染及資源的浪費(fèi),應(yīng)考慮回收利用。按如下流程在實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行實(shí)驗(yàn):從廢液中回收銅,并將鐵的化合物全部轉(zhuǎn)化為FeCl3溶液,作為腐蝕液原料循環(huán)使用。

(1)寫出FeCl3溶液與銅箔發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式:                           
(2)檢驗(yàn)廢腐蝕液中含有Fe3+的實(shí)驗(yàn)操作是                                   
(3)“過濾”用到的玻璃儀器有:普通漏斗、                                 。
(4)廢液中加入過量①后,發(fā)生反應(yīng)的離子方程式:                               
(5)上述流程中取廢液200 mL,其中含CuCl2 1.5 mol·L—1、FeCl2 3.0 mol·L—1、FeCl3 1.0 mol·L—1,若要將銅全部回收,需加入Fe粉的質(zhì)量應(yīng)不少于_____________g;將鐵的化合物全部轉(zhuǎn)化為FeCl3溶液需通入Cl2的物質(zhì)的量不少于_______________mol。
(6)某化學(xué)興趣小組利用在下圖裝置制取氯氣并通入到FeCl2溶液中獲得FeCl3溶液。

制備Cl2的化學(xué)方程式為:                                   
該裝置不完整,請?jiān)谒o虛線框內(nèi)畫出所缺部分,并標(biāo)注試劑。

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