單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料.通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅.粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅.四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅.以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置示意圖. 相關(guān)信息如下: a.四氯化硅遇水極易水解, b.硼.鋁.鐵.磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物, c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表: 物質(zhì) SiCl4 BCl3 AlCl3 FeCl3 PCl5 沸點(diǎn)/℃ 57.7 12.8 - 315 - 熔點(diǎn)/℃ -70.0 -107.2 - - - 升華溫度/℃ - - 180 300 162 請回答下列問題: (1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式 . (2)裝置A中g(shù)管的作用是 ,裝置C中的試劑是 ,裝置E中的h瓶需要冷卻的理由是 . (3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾得到高純度四氯化硅.精餾后的殘留物中.除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是 . (4)為了分析殘留物中鐵元素的含量.先將殘留物預(yù)處理.使鐵元素還原成Fe2+.再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進(jìn)行氧化還原滴定.反應(yīng)的離子方程式是:5Fe2++MnO+8H+===5Fe3++Mn2++4H2O ①滴定前是否要滴加指示劑? .請說明理由 . ②某同學(xué)稱取5.000 g殘留物.經(jīng)預(yù)處理后在容量瓶中配制成100 mL溶液.移取25.00 mL試樣溶液.用1.000×10-2 mol·L-1 KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定.達(dá)到滴定終點(diǎn)時(shí).消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00 mL.則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是 . 解析:制四氯化硅是由粗硅與Cl2反應(yīng)得到的.所以必須先制得Cl2.因SiCl4極易水解.所以Cl2須干燥.再根據(jù)表格數(shù)據(jù)分析提純SiCl4的方法.(1)書寫的是離子方程式.B裝置中盛放飽和食鹽水除去HCl.C裝置中用濃H2SO4除水以制得干燥純凈的Cl2,(2)A中用恒壓分液漏斗平衡壓強(qiáng).使液體順利流下,h瓶用冷卻液冷卻主要目的是得到SiCl4,(3)精餾粗產(chǎn)物得到SiCl4.溫度應(yīng)控制在57.7℃.此時(shí)BCl3變?yōu)闅怏w.但AlCl3.FeCl3.PCl5均殘留在瓶中.所以殘留雜質(zhì)元素是Fe.Al.P.Cl.(4)中①滴定時(shí)MnO是自身指示劑.終點(diǎn)時(shí)變?yōu)樽霞t色且30 s內(nèi)不變即可讀數(shù),②中 5Fe2+-MnO 5 1 x n n=1.000×10-2 mol·L-1×20 mL×10-3 L·mL-1=2.000×10-4 mol x=1.000×10-3 mol.從100 mL中取出25 mL.原溶液中n(Fe2+)=4.000×10-3 mol. w==4.480%. 答案:(1)MnO2+4H++2Cl-Mn2++Cl2↑+2H2O (2)平衡壓強(qiáng).使液體順利流下 濃硫酸 使SiCl4冷凝 ①否 KMnO4溶液自身可作指示劑 ②4.480% 查看更多

 

題目列表(包括答案和解析)

(15分)單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硫、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450-500°C),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置示意圖。

相關(guān)信息如下:

a.四氯化硅遇水極易水解;

b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;

c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:

請回答下列問題:www.ks5.u.com

(1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式                  

(2)裝置A中g(shù)管的作用是               ;裝置C中的試劑是          ;裝置E中的h瓶需要冷卻理由是                  。

(3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是              (填寫元素符號)。

(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預(yù)處理,是鐵元素還原成Fe2+ ,再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進(jìn)行氧化還原滴定,反應(yīng)的離子方程式是:

①滴定前是否要滴加指示劑?            (填“是”或“否”),請說明理由           。

②某同學(xué)稱取5.000g殘留物,預(yù)處理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,試樣溶液,用1.000×10-2mol? L-1KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定。達(dá)到滴定終點(diǎn)時(shí),消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00ml,則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是            。

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(15分)單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硫、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450-500°C),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置示意圖。

相關(guān)信息如下:

a.四氯化硅遇水極易水解;

b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;

c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:

請回答下列問題:

(1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式                  

(2)裝置A中g(shù)管的作用是               ;裝置C中的試劑是          ;裝置E中的h瓶需要冷卻理由是                  。

(3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是              (填寫元素符號)。

(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預(yù)處理,是鐵元素還原成Fe2+ ,再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進(jìn)行氧化還原滴定,反應(yīng)的離子方程式是:

①滴定前是否要滴加指示劑?            (填“是”或“否”),請說明理由           。

②某同學(xué)稱取5.000g殘留物,預(yù)處理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,試樣溶液,用1.000×10-2mol? L-1KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定。達(dá)到滴定終點(diǎn)時(shí),消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00ml,則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是           

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單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450~500 ℃),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置示意圖。

相關(guān)信息如下:

a.四氯化硅遇水極易水解;

b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;

c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:

物質(zhì)

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl下標(biāo)5

沸點(diǎn)/℃

57.7

12.8

315

熔點(diǎn)/℃

-70.0

-107.2

升華溫度/℃

180

300

162

請回答下列問題:

(1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式____________。

(2)裝置A中g(shù)管的作用是____________;裝置C中的試劑是;裝置E中的h瓶需要冷卻的理由是____________________________________。

(3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是____________(填寫元素符號)。

(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預(yù)處理,使鐵元素還原成Fe2+,再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進(jìn)行氧化還原滴定,反應(yīng)的離子方程式是:5Fe2++MnO-4+8H+====5Fe3++Mn2++4H2O

①滴定前是否要滴加指示劑?________(填“是”或“否”),請說明理由__________________。

②某同學(xué)稱取5.000 g殘留物,經(jīng)預(yù)處理后在容量瓶中配制成100 mL溶液,移取25.00 mL試樣溶液,用1.000×10-2 mol·L-1 KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定。達(dá)到滴定終點(diǎn)時(shí),消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00 mL,則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是________________。

 

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單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硫、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450-500°C),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置示意圖。

相關(guān)信息如下:

a.四氯化硅遇水極易水解;

b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;

c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:

請回答下列問題:www.ks5.u.com

(1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式                   。

(2)裝置A中g(shù)管的作用是               ;裝置C中的試劑是          ;裝置E中的h瓶需要冷卻理由是                  。

(3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是              (填寫元素符號)。

(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預(yù)處理,是鐵元素還原成Fe2+ ,再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進(jìn)行氧化還原滴定,反應(yīng)的離子方程式是:

①滴定前是否要滴加指示劑?            (填“是”或“否”),請說明理由           。

②某同學(xué)稱取5.000g殘留物,預(yù)處理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,試樣溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定。達(dá)到滴定終點(diǎn)時(shí),消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00ml,則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是            。

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單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制得粗硅(含鐵、鋁、硫、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度450-500°C),四氯化硅經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實(shí)驗(yàn)室制備四氯化硅的裝置示意圖。

相關(guān)信息如下:

a.四氯化硅遇水極易水解;

b.硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物;

c.有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:

請回答下列問題:

(1)寫出裝置A中發(fā)生反應(yīng)的離子方程式                   。

(2)裝置A中g(shù)管的作用是               ;裝置C中的試劑是          ;裝置E中的h瓶需要冷卻理由是                  。

(3)裝置E中h瓶收集到的粗產(chǎn)物可通過精餾(類似多次蒸餾)得到高純度四氯化硅,精餾后的殘留物中,除鐵元素外可能還含有的雜質(zhì)元素是              (填寫元素符號)。

(4)為了分析殘留物中鐵元素的含量,先將殘留物預(yù)處理,是鐵元素還原成Fe2+ ,再用KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液在酸性條件下進(jìn)行氧化還原滴定,反應(yīng)的離子方程式是:

①滴定前是否要滴加指示劑?            (填“是”或“否”),請說明理由           。

②某同學(xué)稱取5.000g殘留物,預(yù)處理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,試樣溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4標(biāo)準(zhǔn)溶液滴定。達(dá)到滴定終點(diǎn)時(shí),消耗標(biāo)準(zhǔn)溶液20.00ml,則殘留物中鐵元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)是            。

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