(08年廣東卷)硅單質及其化合物應用范圍很廣。請回答下列問題：

制備硅半導體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷（SiHCl3）還原法是當前制備高純硅的主要方法，生產過程示意圖如下：

①寫出由純SiHCl3制備高純硅的化學反應方程式________。

②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧。SiHCl3遇水劇烈反應生成H2SiO3、HCl和另一種物質，寫出配平的化學反應方程式____；H2還原SihCl3過程中若混02，可能引起的后果是______     。

（2）下列有頭硅材料的詳法正確的是_____    （填字母）。

A.碳化硅化學性質穩(wěn)定，可用于生產耐高溫水混

B.氮化硅硬度大、熔點高，可用于制作高溫陶瓷和軸承

C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂的，其熔點很高

D.鹽酸可以與硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

E．鹽酸可以和硅反應，故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅

(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃。取少量硅酸鈉溶液于試管中，逐滴加入飽和氯化銨溶液，振蕩。寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋_____。