Question

【題目】“太空涂鴉”技術(shù)的基本物理模型是：原來在較低圓軌道運行的攻擊衛(wèi)星在變軌后接近在較高圓軌道上運行的偵察衛(wèi)星時，向其發(fā)射“漆霧”彈，“漆霧”彈在臨近偵察衛(wèi)星時，壓爆彈囊，讓“漆霧”散開并噴向偵察衛(wèi)星，噴散后強力吸附在偵察衛(wèi)星的偵察鏡頭、太陽能板、電子偵察傳感器等關(guān)鍵設(shè)備上，使之暫時失效。關(guān)于這一過程下列說法正確的是

A.攻擊衛(wèi)星在原軌道上運行的周期比偵察衛(wèi)星的周期大

B.攻擊衛(wèi)星在原軌道需要加速才能變軌接近偵查衛(wèi)星

C.攻擊衛(wèi)星在原軌道上運行的線速度比偵察衛(wèi)星的線速度小

D.攻擊衛(wèi)星接近偵查衛(wèi)星的過程中受到地球的萬有引力一直在增大

Answer 1

【答案】B

【解析】

萬有引力提供向心力：

A. 根據(jù) 可知半徑小的周期小，則A錯誤。

B. 衛(wèi)星由低軌道加速做離心運動才能變到高軌道，則B正確。

C. 根據(jù) 可知半徑小的線速度大，則C錯誤。

D. 根據(jù) 可知距離變大力變小，則D錯誤。