【題目】下列類型的反應(yīng),一定發(fā)生電子轉(zhuǎn)移的是
A. 化合反應(yīng)B. 分解反應(yīng)C. 置換反應(yīng)D. 復(fù)分解反應(yīng)
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【題目】SO2通入BaCl2溶液中并不產(chǎn)生沉淀,而通入另一種氣體后可以產(chǎn)生白色沉淀.則圖中右側(cè)Y形管中放置的藥品組合不符合要求的是(必要是可以加熱)( )
A.Cu和濃硝酸
B.CaO和濃氨水
C.大理石和稀鹽酸
D.高錳酸鉀溶液和濃鹽酸
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【題目】由N、B等元素組成的新型材料有著廣泛用途.
(1)B2H6是一種高能燃料,它與Cl2反應(yīng)生成的BCl3可用于半導(dǎo)體摻雜工藝及高純硅制造.由第二周期元素組成的與BCl3互為等電子體的陰離子為(填離子符號,填一個).
(2)氨硼烷(H3N→BH3)和Ti(BH4)3均為廣受關(guān)注的新型化學(xué)氫化物儲氫材料.
①H3N→BH3中N原子的軌道雜化類型為 .
②Ti(BH4)3由TiCl3和LiBH4反應(yīng)制得.基態(tài)Ti3+的未成對電子數(shù)有個,BH4﹣的立體構(gòu)型是 . 寫出該制備反應(yīng)的化學(xué)方程式 .
③氨硼烷可由六元環(huán)狀化合物(HB=NH)3通過如下反應(yīng)制得:3CH4+2 (HB=NH)3+6H2O→3CO2+6H3BNH3
與上述化學(xué)方程式有關(guān)的敘述不正確的是 . (填標號)
A.氨硼烷中存在配位鍵
B.第一電離能:N>O>C>B
C.反應(yīng)前后碳原子的軌道雜化類型不變
D.CH4、H2O、CO2分子空間構(gòu)型分別是:正四面體形、V形、直線形
(3)磷化硼(BP)是受到高度關(guān)注的耐磨材料.如圖1為磷化硼晶胞.
①磷化硼晶體屬于晶體(填晶體類型),(填是或否)含有配位鍵.
②晶體中B原子的配位數(shù)為 .
(4)立方氮化硼是一種新型的超硬、耐磨、耐高溫的結(jié)構(gòu)材料,其結(jié)構(gòu)和硬度都與金剛石相似,但熔點比金剛石低,原因是 .
(5)圖2是立方氮化硼晶胞沿z軸的投影圖,請在圖中圓球上涂“●”和畫“×”分別標明B與N的相對位置.
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【題目】如圖所示,取一張用飽和的NaCl溶液浸濕的pH試紙,兩根鉛筆芯作電極,接通直流電源,一段時間后,發(fā)現(xiàn)a電極與試紙接觸處出現(xiàn)一個雙色同心圓,內(nèi)圈為白色,外圈呈淺紅色.則下列說法錯誤的是( )
A.b電極是陰極
B.a電極與電源的正極相連
C.電解過程中水是氧化劑
D.b電極附近溶液的pH變小
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【題目】標準狀況下有①6.72L甲烷 ②3.01×1023個氯化氫分子 ③13.6g硫化氫④0.2mol NH3 . 下列對這四種氣體的關(guān)系從小到大表示不正確的是( )
A.體積:④<①<②<③
B.密度:①<④<③<②
C.質(zhì)量:④<①<③<②
D.氫原子數(shù):②<④<③<①
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【題目】下列反應(yīng)中生成物總能量高于反應(yīng)物總能量的是( )
A. 碳酸鈣受熱分解B. 乙醇燃燒C. 鋁粉與氧化鐵粉末反應(yīng)D. 氧化鈣溶于水
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【題目】NA為阿伏伽德羅常數(shù),下列說法正確的是( )
A.標準狀況下,11.2L的戊烷所含的分子數(shù)為0.5NA
B.28g乙烯所含共用電子對數(shù)目為4NA
C.標準狀況下,11.2L二氯甲烷所含分子數(shù)為0.5NA
D.現(xiàn)有乙烯、丙烯、丁烯的混合氣體共14g,其原子數(shù)為3NA
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【題目】在FeCl3溶液蝕刻銅箔制造電路板的工藝中,廢液處理和資源回收的過程簡述如下:(己知:Ksp[Fe(OH)3]=4.0×10﹣38) Ⅰ:向廢液中投入過量鐵屑,充分反應(yīng)后分離出固體和濾液:
Ⅱ:向濾液中加入一定量石灰水,調(diào)節(jié)溶液pH,同時鼓入足量的空氣.
回答下列問題:
(1)FeCl3蝕刻銅箔反應(yīng)的離子方程式為:
(2)過程Ⅰ加入鐵屑的主要作用是 , 分離得到固體的主要成分是 , 從固體中分離出銅需采用的方法是;
(3)過程Ⅱ中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式為;
(4)過程Ⅱ中調(diào)節(jié)溶液的pH為5,金屬離子濃度為 . (列式計算)
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