【題目】化合物M是二苯乙炔類液晶材料的一種,最簡單的二苯乙炔類化合物是。以互為同系物的單取代芳烴A、G為原料合成M的一種路線(部分反應條件略去)如下:
回答下列問題:
(1)A的分子式為____________。
(2)D中含有的官能團是____________,分子中最多有____________個碳原子共平面。
(3)①的反應類型是____________,③的反應類型是____________。
(4)⑤的化學方程式為_______________________________________________。
(5)B的同分異構體中能同時滿足如下條件:①苯環(huán)上有兩個取代基,②能發(fā)生銀鏡反應,共有________種(不考慮立體異構),其中核磁共振氫譜為5組峰,且峰面積比為6:2:2:1:1的是________(寫結構簡式)。
(6)參照上述合成路線,設計一條由苯乙烯和甲苯為起始原料制備
的合成路線:____________________________________________________________。
【答案】 C8H10 碳碳雙鍵 10 取代反應 消去反應 略 15
【解析】由B的結構可知反應①為取代反應,A為,B發(fā)生還原反應生成C,D能與溴的四氯化碳反應生成E,E在氫氧化鉀、乙醇條件下反應得到F,可知E為鹵代烴,D含有不飽和鍵,故反應③為消去反應,則D為,E為,F為,由M的分子式可知,反應⑦屬于取代反應,M的結構簡式為;
(1)A的結構簡式為;
(2)D為,含有的官能團是碳碳雙鍵,苯環(huán)為平面結構、碳碳雙鍵為平面結構,旋轉碳碳單鍵可以使2個平面共面,通過選擇碳碳雙鍵可以使甲基中C原子處于上述平面內,即所有的碳原子都可能共面,分子中最多有10個碳原子共平面;
(3)①的反應類型是取代反應,④的反應類型是加成反應;
(4)⑤的化學方程式為:;
(5)B()的同分異構體中能同時滿足如下條件:①苯環(huán)上有兩個取代基,②能發(fā)生銀鏡反應,含有-CHO,2個側鏈為-CHO、-CH2CH2CH3,或者為-CHO、-CH(CH3)2,或者為-CH2CHO、-CH2CH3,或者為-CH2CH2CHO、-CH3,或者為-C(CH3)CHO、-CH3,各有鄰、間、對3種,共有15種,其中核磁共振氫譜為5組峰,且峰面積比為6:2:2:1:1的是:;
(6)中苯乙烯與溴發(fā)生加成反應得到,再在KOH/乙醇條件下發(fā)生消去反應生成,甲苯通過I2/HIO3、CH3COOH/H2SO4得到,與發(fā)生取代反應得到,合成合成路線流程圖為:
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【題目】某化學研究性學習小組對某無色水樣的成分進行檢驗,已知該水樣中只可能含有K+、Mg2+、Fe3+、Cu2+、Al3+、Ag+、Ca2+、CO、SO、Cl﹣中的若干種離子.該小組同學取100mL水樣進行實驗,向水樣中先滴加硝酸鋇溶液,再滴加1mol/L的硝酸,實驗過程中沉淀質量的變化情況如下圖所示:(提示:Al3+與CO不共存)
(1)水樣中一定含有的陰離子是_____,其物質的量濃度之比為_____.
(2)寫出BC段所表示反應的離子方程式:_____.
(3)由B到C點變化過程中消耗硝酸的體積為_____.
(4)試根據(jù)實驗結果推測K+是否存在?_____(填“是”或“否”);若存在,K+的物質的量濃度c(K+)的范圍是_____.(若K+不存在,則不必回答該問).
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【題目】尼龍-66是一種重要的合成纖維,它是由己二酸和己二胺[H2N—(CH2)6-NH2]以相等的物質的量在一定條件下聚合而成的,下列敘述中不正確的是( )
A. 尼龍-66的結構簡式是
B. 合成尼龍-66的反應屬于縮聚反應
C. 合成尼龍-66的反應基礎是酯化反應
D. 尼龍-66的長鏈結構中含有肽鍵
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科目:高中化學 來源: 題型:
【題目】砷(As)是一些工廠和礦山廢水中的污染元素,使用吸附劑是去除水中砷的有效措施之一。
(1)將硫酸錳、硝酸釔與氫氧化鈉溶液按一定比例混合,攪拌使其充分反應,可獲得一種砷的高效吸附劑X,吸附劑X中含有,其原因是_______________________________。
(2)H3AsO3和H3AsO4水溶液中含砷的各物種的分布分數(shù)(平衡時某物種的濃度占各物種濃度之和的分數(shù))與pH的關系分別如題20圖- 1和題20圖- 2所示。
①以酚酞為指示劑(變色范圍pH 8.0 ~ 10.0),將NaOH溶液逐滴加入到H3AsO3溶液中,當溶液由無色變?yōu)闇\紅色時停止滴加。該過程中主要反應的離子方程式為__________________。
②H3AsO4第一步電離方程式H3AsO4H2AsO4-+H+的電離常數(shù)為Ka1,則pKa1=______(p Ka1 = -lg Ka1 )。
(3)溶液的pH對吸附劑X表面所帶電荷有影響。pH =7.1時, 吸附劑X表面不帶電荷; pH > 7.1時帶負電荷,pH越高,表面所帶負電荷越多;pH<7.1時帶正電荷,pH越低,表面所帶正電荷越多。pH不同時吸附劑X對三價砷和五價砷的平衡吸附量(吸附達平衡時單位質量吸附劑X吸附砷的質量)如題20圖-3所示。
①在pH7~9之間,吸附劑X對五價砷的平衡吸附量隨pH升高而迅速下降,其原因是______________。
②在pH4~7之間,吸附劑X對水中三價砷的去除能力遠比五價砷的弱,這是因為___________。 提高吸附劑X對三價砷去除效果可采取的措施是_________________________________。
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【題目】某科研小組采用如下方案回收一種光盤金屬層中的少量Ag(金屬層中其他金屬含 量過低,對實驗的影響可忽略)。
已知:①NaClO溶液在受熱或酸性條件下易分解,如: 3NaClO2NaCl+NaClO3
②AgCl可溶于氨水:AgCl+2NH3·H2O Ag(NH3) 2++ Cl- +2H2O
③常溫時 N2H4·H2O(水合肼)在堿性條件下能還原 Ag(NH3) 2+ :
4 Ag(NH3) 2++N2H4·H2O4Ag↓+ N2↑+ 4+ 4NH3↑+H2O
(1)“氧化”階段需在 80℃條件下進行,適宜的加熱方式為__________________。
(2)NaClO 溶液與 Ag 反應的產物為 AgCl、NaOH 和 O2 ,該反應的化學方程式為_____________。 HNO3也能氧化Ag,從反應產物的角度分析,以HNO3代替NaClO的缺點是___________________。
(3)為提高Ag的回收率,需對“過濾Ⅱ”的濾渣進行洗滌,并_______________________。
(4)若省略“過濾Ⅰ”,直接向冷卻后的反應容器中滴加10%氨水,則需要增加氨水的用量,除因過量NaClO與NH3·H2O反應外(該條件下NaClO3與NH3·H2O不反應),還因為___________________________。
(5)請設計從“過濾Ⅱ”后的濾液中獲取單質Ag的實驗方案:________________________(實驗中須使用的試劑有: 2 mol·L-1水合肼溶液,1 mol·L-1H2SO4 )。
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【題目】(1)如圖是鈉原子結構示意圖。
①x的數(shù)值為___________。②“11”指的是___________。
③鈉原子在化學反應中易失去1個電子,形成___________(寫離子符號)。
(2)如圖裝置具有多種用途,請回答:
①當氣體由a管進b管出時,可用于收集密度比空氣____________的氣體;當氣體由b管進a管出時,能收集的氣體有__________________(寫出兩種氣體)。
②若用其干燥酸性氣體,應在瓶中裝入的物質是________________;若用其測定氣體體積時,可在瓶中充滿水,并在b后添加________________(儀器名稱)。
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【題目】鈷、鎳與鐵是同族元素,主要化合價均為+2、+3價,它們的單質及化合物的性質有很多相似之處。試回答下列問題:
(1)氯化鐵溶液呈__________ (填“酸”“中”或“堿”)性,原因是___________ (用離子方程式表示)。
(2)將Co3O4與濃鹽酸混合,可生成黃綠色氣體。寫出該反應的化學方程式: ________。
(3)Co2+和Fe3+均可與KSCN溶液發(fā)生相似的反應,向CoCl2溶液中加入KSCN溶液,生成某種藍色離子,該離子中鈷元素的質量分數(shù)約為20%。則該離子的化學式為___________。
(4)為了比較Fe、Co、Cu三種金屬的活動性,某實驗小組設計如下實驗裝置。
丙裝置中充入滴有酚酞的氯化鈉溶液,X、Y均為石墨電極。反應一段時間后,可觀察到甲裝置中Co電極附近產生氣泡,丙裝置中X極附近溶液變紅?芍N金屬的活動性由強到弱的順序是__________(填元素符號)若起始時裝置丙中有1L1.5mol·L1氯化鈉溶液,一段時間后,a處收集到1.12LH2(標準狀況),忽略溶液體積的變化,裝置丙中所有離子的濃度由大到小的順序為___________。
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【題目】現(xiàn)有Al、Cl2、Al2O3、HCl(aq)、Al(OH)3、NaOH(aq)六種物質,它們之間的關系如圖所示,圖中每條線兩端的物質之間都可以發(fā)生反應,下列推斷不合理的是
A. X可能為Al或Cl2 B. Y一定為NaOH(aq)
C. N一定是HCl(aq) D. Q、Z中的一種必為Al2O3
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【題目】下列實驗裝置中能達到實驗目的是
A. 圖①可用于制取少量NH3或用MnO2和濃鹽酸制取Cl2
B. 裝置②可用于氯化氫氣體溶于水
C. 以NH4Cl為原料,裝置③可用于實驗室制備少量干燥的NH3
D. 裝置④可用于除去Cl2中的HCl
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