硅及其化合物對人類現(xiàn)代文明的發(fā)展具有特殊貢獻(xiàn)。請回答下列有關(guān)問題:
(1)硅原子的結(jié)構(gòu)示意圖:________。
(2)下列物品或設(shè)備所用的材料屬于硅酸鹽的是________。
①長江三峽水泥大壩、谑⒐鈱(dǎo)纖維、厶沾邵釄
④普通玻璃、莨杼柲茈姵
A.①②⑤ | B.③④⑤ | C.②③④ | D.①③④ |
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:填空題
二氧化氯泡騰片,有效成分(ClO2)是一種高效、安全的殺菌、消毒劑。
方法一:氯化鈉電解法是一種可靠的工業(yè)生產(chǎn)ClO2氣體的方法。該法工藝原理如圖。其過程是將食鹽水在特定條件下電解得到的氯酸鈉(NaClO3)與鹽酸反應(yīng)生成ClO2。
(1)工藝中可利用的單質(zhì)有__________(填化學(xué)式),發(fā)生器中生成ClO2的化學(xué)方程式為_____________。
(2)此法的缺點主要是______________________________________。
方法二:最近,科學(xué)家又研究出了一種新的制備方法,纖維素還原法制ClO2,其原理是:纖維素水解得到的最終產(chǎn)物X與NaClO3反應(yīng)生成ClO2。
(3)配平方程式: □ (X) +□NaClO3+□H2SO4→□ClO2↑+□CO2↑+□H2O+□______
若反應(yīng)中產(chǎn)生4.48L(折算成標(biāo)準(zhǔn)狀況下)氣體,電子轉(zhuǎn)移________ 個。
(4)ClO2和Cl2均能將電鍍廢水中的CN—氧化為無毒的物質(zhì),自身被還原為Cl—。處理含CN—相同量的電鍍廢水,所需Cl2的物質(zhì)的量是ClO2的_______倍。
方法三:實驗室常用氯酸鈉(NaClO3)和亞硫酸鈉(Na2SO3)用硫酸酸化,加熱制備二氧化氯,化學(xué)反應(yīng)方程式為:2NaClO3+Na2SO3+H2SO42ClO2↑+2Na2SO4+H2O
(5)反應(yīng)中的Na2SO3溶液中存在如下平衡:H2OH++OH-和 ________________(用離子方程式表示).
常溫下,0.1mol/L該溶液中離子濃度由大到小排列__________________(用離子符號表示)
(6)常溫下,已知NaHSO3溶液呈酸性,在Na2SO3溶液中滴加稀鹽酸至中性時,溶質(zhì)的主要成分有________________。(用化學(xué)式表示)
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:填空題
硫酸和硝酸是中學(xué)階段常見的兩種強酸,請就兩者與金屬銅的反應(yīng)情況回答下列問題:
(1)在100 mL 18 mol·L-1的濃硫酸中加入過量的銅片,加熱使之充分反應(yīng),產(chǎn)生的氣體在標(biāo)準(zhǔn)狀況下的體積可能是 (填寫代號);
A.7.32 L | B.6.72 L | C.20.16 L | D.30.24 L |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:填空題
白玉的化學(xué)式可用CaxMgySipO22(OH)2表示(也可用Ca、Mg、Si、H的氧化物表示)。
(1)取8.l0g白玉粉末灼燒至恒重,固體減少了0.18g,則白玉的摩爾質(zhì)量為______。
(2)另取4.05g白玉粉末加入l mol/L的鹽酸l00mL中充分溶解,最終得不溶氧化物2. 40g.過濾,將濾液和洗滌液合并后往其中加入足量的鐵屑,得到氣體336mL(標(biāo)準(zhǔn)狀況下).則
①p=_________;
②白玉的化學(xué)式(用氧化物的形式)表示為________。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:填空題
在NO2、HBr、SO2和NH3四種氣體中,有顏色的氣體是 ;在相同條件下,密度最小的氣體是 ;能使?jié)櫇竦募t色石蕊試紙變藍(lán)的氣體是 ;兩氣體相遇冒白煙,這兩種氣體是 。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:填空題
硝酸銨是含氮量較高的化肥,生產(chǎn)流程如下(產(chǎn)物水均已略去):
(1)反應(yīng)④的化學(xué)方程式為3NO2+H2O = 2HNO3+NO,該反應(yīng)的氧化劑為__________,還原劑為__________。
(2)補充并配平反應(yīng)②的化學(xué)方程式:____NH3 +___O2____NO+ ________
(3)化學(xué)反應(yīng)_______(填序號)是非氧化還原反應(yīng),離子方程式為_________________
(4)有人設(shè)計了一個反應(yīng)來制備硝酸NO2+NH3 — HNO3+H2O(未配平),你認(rèn)為該反應(yīng) (填“能”或“不能”)發(fā)生,理由是______________________。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:填空題
硅在地殼中的含量較高,硅及其化合物的開發(fā)由來已久,在現(xiàn)代生活中有廣泛應(yīng)用;卮鹣铝袉栴}:
(1)陶瓷、水泥和玻璃是常用的傳統(tǒng)的無機非金屬材料,其中生產(chǎn)普通玻璃的主要原料有 。
(2)高純硅是現(xiàn)代信息、半導(dǎo)體和光伏發(fā)電等產(chǎn)業(yè)都需要的基礎(chǔ)材料。工業(yè)上提純硅有多種路線,其中一種工藝流程示意圖及主要反應(yīng)如下:
①工業(yè)上用石英砂和焦炭在電弧爐中高溫加熱到1600℃-1800℃除生成粗硅外,也可以生產(chǎn)碳化硅,則在電弧爐內(nèi)可能發(fā)生的反應(yīng)的化學(xué)方程式為 。
②在流化床反應(yīng)的產(chǎn)物中,SiHCl3大約占85%,還有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等,粗硅生成SiHCl3的化學(xué)反應(yīng)方程式 。
(3)有關(guān)物質(zhì)的沸點數(shù)據(jù)如下表,提純SiHCl3的主要工藝操作依次是沉降、冷凝和 ;SiHCl3極易水解,其完全水解的產(chǎn)物為 。
物質(zhì) | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
沸點/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:填空題
請回答下列問題:
(1)制備硅半導(dǎo)體材料必須先得到高純硅。三氯甲硅烷還原法是當(dāng)前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:
①寫出由純制備高純硅的化學(xué)方程式: ____________________________________。
②整個制備過程必須嚴(yán)格控制無水無氧。遇水劇烈反應(yīng)生成、HCl和另一種物質(zhì),配平后的化學(xué)反應(yīng)方程式為___________________________;還原過程中若混入可能引起的后果是____________________________________。
(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是_________ (填字母)。
A.碳化硅化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水泥 |
B.氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承 |
C.高純度的二氧化硅可用于制造高性能通訊材料——光導(dǎo)纖維 |
D.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂制成的,其熔點很高 |
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:填空題
金剛石SiC具有優(yōu)良的耐磨、耐腐蝕特性,應(yīng)用廣泛.
(1)碳與同周期元素Q的單質(zhì)化合僅能生成兩種常見氣態(tài)化合物,其中一種化合物H為非極性分子,碳元素在周期表中的位置是,Q是,R的電子式為.
(2)一定條件下,Na還原CCl4可制備金剛石,反應(yīng)結(jié)束冷卻至室溫后,回收CCl4的實驗操作名稱為,除去粗產(chǎn)品中少量鈉的試劑為.
(3)碳還原制SiC,其粗產(chǎn)品中雜質(zhì)為Si和SiO2.先將20.0g粗產(chǎn)品加入到過量的NaOH溶液中充分反應(yīng),收集到0.1mol氫氣,過濾得SiC固體11.4g,濾液稀釋到1L,生成氫氣的離子方程式為,硅酸鈉的物質(zhì)的量濃度為
(4)下列敘述正確的有(填序號),ks5u
①Na還原CCl4的反應(yīng)、Cl2與H2O的反應(yīng)均是置換反應(yīng)②水晶、干冰熔化時克服粒子間作用力的類型相同③Na2SiO3溶液與SO3的反應(yīng)可用于推斷Si與S的非金屬性強弱
④鈉、鋰分別在空氣中燃燒,生成的氧化物中陰陽離子數(shù)目比均為1:2
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