(2008?廣東)硅單質(zhì)及其化合物應用范圍很廣.請回答下列問題:
(1)制備硅半導體材料必須先得到高純硅.三氯甲硅烷(SiHCl
3)還原法是當前制備高純硅的主要方法,生產(chǎn)過程示意圖如下:
①寫出由純SiHCl
3制備高純硅的化學反應方程式
.
②整個制備過程必須嚴格控制無水無氧.SiHCl
3遇水劇烈反應生成H
2SiO
3、HCl和另一種物質(zhì),寫出配平的化學反應方程式
3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
;H
2還原SiHCl
3過程中若混O
2,可能引起的后果是
高溫下,H2遇O2發(fā)生爆炸
高溫下,H2遇O2發(fā)生爆炸
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(2)下列有關(guān)硅材料的說法正確的是
ABCD
ABCD
(填字母).
A.碳化硅化學性質(zhì)穩(wěn)定,可用于生產(chǎn)耐高溫水混
B.氮化硅硬度大、熔點高,可用于制作高溫陶瓷和軸承
C.普通玻璃是由純堿、石灰石和石英砂的,其熔點很高
D.鹽酸可以與硅反應,故采用鹽酸為拋光液拋光單晶硅
(3)硅酸鈉水溶液俗稱水玻璃.取少量硅酸鈉溶液于試管中,逐滴加入飽和氯化銨溶液,振蕩.寫出實驗現(xiàn)象并給予解釋
生成白色絮狀沉淀,又刺激性氣味的氣體生成,SiO32-與NH4+發(fā)生雙水解反應,SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
生成白色絮狀沉淀,又刺激性氣味的氣體生成,SiO32-與NH4+發(fā)生雙水解反應,SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3↓
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