SiO2在高溫下可發(fā)生反應(yīng)：SiO2+3C═SiC+2CO↑，該反應(yīng)中氧化劑與還原劑的質(zhì)量比是


  1. A.
    1：2
  2. B.
    2：1
  3. C.
    1：3
  4. D.
    1：1
A
分析：SiO2+3C═SiC+2CO↑中，碳元素的化合價(jià)既升高又降低，其它元素的化合價(jià)都沒(méi)有變化，以此來(lái)解答．
解答：因SiO2+3C═SiC+2CO↑中，碳元素的化合價(jià)既升高又降低，
則碳既是氧化劑又是還原劑，
碳由0降低為-4價(jià)時(shí)，作氧化劑，
碳由0升高到+2價(jià)時(shí)，作還原劑，
由方程式中的碳原子守恒，
則氧化劑與還原劑的物質(zhì)的量之比為1：2，
即該反應(yīng)中氧化劑與還原劑的質(zhì)量比是1：2，
故選A．
點(diǎn)評(píng)：本題考查氧化劑與還原劑的質(zhì)量比，明確碳既是氧化劑又是還原劑，則物質(zhì)的量之比等于質(zhì)量比即可解答，準(zhǔn)確判斷元素的化合價(jià)變化是解答的關(guān)鍵．
練習(xí)冊(cè)系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來(lái)源： 題型：

（2011?泰州一模）近年來(lái)高錳酸鉀在飲用水和工業(yè)污水處理領(lǐng)域的消費(fèi)增長(zhǎng)較快．實(shí)驗(yàn)室可用軟錳礦（主要成分MnO2）為原料制備高錳酸鉀．其部分流程如下：

（1）實(shí)驗(yàn)中采用鐵坩堝而不用瓷坩堝的原因是
在高溫下，瓷坩堝可以和KOH發(fā)生反應(yīng)SiO2+2KOH═K2SiO3+H2O，腐蝕瓷坩堝
在高溫下，瓷坩堝可以和KOH發(fā)生反應(yīng)SiO2+2KOH═K2SiO3+H2O，腐蝕瓷坩堝
；
（2）KOH、KClO3、MnO2共熔制得綠色K2MnO4的化學(xué)方程式
KClO3+3MnO2+6KOH
 高溫 
.
 
KCl+3K2MnO4+3H2O，
KClO3+3MnO2+6KOH
 高溫 
.
 
KCl+3K2MnO4+3H2O，
；
（3）通入CO2，可使MnO42-發(fā)生歧化反應(yīng)，生成MnO4-及MnO2，則K2MnO4完成反應(yīng)時(shí)，轉(zhuǎn)化為KMnO4的百分率約
66.7%
66.7%
（精確至0.1%）
（4）若通入CO2太多，則在加熱濃縮時(shí)，會(huì)有
KHCO3
KHCO3
晶體和KMnO4晶體一起析出．
（5）在加熱、濃縮、烘干的過(guò)程中溫度不宜過(guò)高，其原因是
溫度過(guò)高會(huì)導(dǎo)致KMnO4分解
溫度過(guò)高會(huì)導(dǎo)致KMnO4分解
；加熱時(shí)用玻璃棒不停攪拌溶液的目的是
受熱均勻，有利于蒸發(fā)溶劑
受熱均勻，有利于蒸發(fā)溶劑
．

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科目：高中化學(xué) 來(lái)源：2014屆浙江省杭州市七校高三上學(xué)期期中聯(lián)考化學(xué)試卷（解析版） 題型：填空題

清洗和制絨是硅晶片制作的重要步驟之一，硅片化學(xué)清洗的主要目的是除去硅片表面雜質(zhì)（如某些有機(jī)物，無(wú)機(jī)鹽，金屬、Si、SiO2粉塵等）。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑、雙氧水、濃酸、強(qiáng)堿等。其中去除硅的氧化物，通常用一定濃度的HF溶液，室溫條件下將硅片浸泡1至數(shù)分鐘。制絨是在硅片表面形成金字塔形的絨面，增加硅對(duì)太陽(yáng)光的吸收。單晶制絨通常用NaOH，Na2SiO3等混合溶液在75～90℃反應(yīng)25～35 min，效果良好。

回答下列問(wèn)題

（1）能否用玻璃試劑瓶來(lái)盛HF溶液，為什么?用化學(xué)方程式加以解釋                           ；

（2）寫(xiě)出晶片制絨反應(yīng)的離子方程式                                    ，對(duì)單晶制絨1990年化學(xué)家Seidel提出了一種的電化學(xué)模型，他指出Si與NaOH溶液的反應(yīng)，首先是Si與OH一反應(yīng)，生成SiO44一，然后SiO44一迅速水解生成H4SiO4�；诖嗽矸治龇磻�(yīng)中氧化劑為                     。

（3）本校化學(xué)興趣小組同學(xué)，為驗(yàn)證Seidel的理論是否正確，完成以下實(shí)驗(yàn)：

 

實(shí)驗(yàn)事實(shí)

事實(shí)一

水蒸汽在600℃時(shí)可使粉末狀硅緩慢氧化并放出氫氣。

事實(shí)二

盛放于鉑或石英器皿中的純水長(zhǎng)時(shí)間對(duì)粉末狀還原硅無(wú)腐蝕作用。

事實(shí)三

普通玻璃器皿中的水僅因含有從玻璃中溶出的微量的堿便可使粉末狀硅在其中緩慢溶解。

事實(shí)四

在野外環(huán)境里，用較高百分比的硅鐵粉與干燥的Ca(OH)2和NaOH，點(diǎn)著后燜燒，可劇烈放出H2。

事實(shí)五

1g（0.036mo1）Si和20mL含有l(wèi)gNaOH（0.025mol）的溶液，小心加熱（稍微預(yù)熱），收集到約1700mL H2，很接近理論值（1600mL）。

 

結(jié)論：從實(shí)驗(yàn)上說(shuō)明堿性水溶液條件下，H2O可作                 劑；NaOH作               劑，降低反應(yīng)             。高溫?zé)o水環(huán)境下，NaOH作               劑。

（4）在太陽(yáng)能電池表面沉積深藍(lán)色減反膜——氮化硅晶膜。常用硅烷（SiH4）與氨氣（NH3）在等離子體中反應(yīng)。硅烷是一種無(wú)色、有毒氣體，常溫下與空氣和水劇烈反應(yīng)。下列關(guān)于硅烷、氮化硅的敘述不正確的是                。

A．在使用硅烷時(shí)要注意隔離空氣和水，SiH4能與水發(fā)生氧化還原反應(yīng)生成H2；

B．硅烷與氨氣反應(yīng)的化學(xué)方程式為：3SiH4+4NH3＝Si3N4+12H2↑，反應(yīng)中NH3作氧化劑；

C．它們具有卓越的抗氧化、絕緣性能和隔絕性能，化學(xué)穩(wěn)定性很好，不與任何酸、堿反應(yīng)；

D．氮化硅晶體中只存在共價(jià)鍵，Si3N4是優(yōu)良的新型無(wú)機(jī)非金屬材料。

 

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