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6．下列各組物質(zhì)的熔沸點(diǎn)能用化學(xué)鍵的強(qiáng)弱解釋的是（　�。�
A．H2O＞H2SB．NaCl＞O2C．Na＞KD．SiO2＞CO2

分析 A．水分子之間含氫鍵，沸點(diǎn)高；
B．NaCl為離子晶體，氧氣為分子晶體；
C．Na、K均為金屬晶體，K的離子半徑大、金屬鍵弱；
D．SiO2為原子晶體，CO2為分子晶體．

解答 解：A．水分子之間含氫鍵，沸點(diǎn)高，則熔沸點(diǎn)H2O＞H2S，與氫鍵、分子間作用力有關(guān)，故A不選；
B．NaCl為離子晶體，氧氣為分子晶體，與晶體類型有關(guān)，故B不選；
C．Na、K均為金屬晶體，K的離子半徑大、金屬鍵弱，則熔沸點(diǎn)能用化學(xué)鍵的強(qiáng)弱解釋，故C選；
D．二者均含共價(jià)鍵，SiO2為原子晶體，CO2為分子晶體，與晶體類型、空間結(jié)構(gòu)有關(guān)，故D不選；
故選C．

點(diǎn)評 本題考查物質(zhì)的性質(zhì)及化學(xué)鍵，為高頻考點(diǎn)，把握晶體類型、作用力與性質(zhì)的關(guān)系為解答的關(guān)鍵，側(cè)重分析與應(yīng)用能力的考查，注意規(guī)律性知識的應(yīng)用，題目難度不大．

練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目：高中化學(xué) 來源： 題型：實(shí)驗(yàn)題

16．巴蜀化學(xué)課外小組用海帶為原料制取了少量碘水，現(xiàn)用CCl4 （沸點(diǎn)76.8℃）從碘水中萃取碘并用分液漏斗分離兩種溶液．實(shí)驗(yàn)操作可分解為如下幾步：
A．把盛有溶液的分液漏斗放在鐵架臺的鐵圈中；
B．靜罝，分層；
C．檢驗(yàn)分液漏斗活塞和上口的玻璃塞是否漏液；
D．倒轉(zhuǎn)漏斗用力振蕩并不時(shí)旋開活塞放氣，最后關(guān)閉活塞，把分液漏斗放正；
E．從分液漏斗上口倒出含碘的CCl4溶液；
F．把50mL碘水和15mL CCl4加入分液漏斗中，并蓋好玻璃塞；
G．旋幵活塞，用燒杯接收溶液；
H．將漏斗上口的玻璃塞打開或使塞上的凹槽或小孔對準(zhǔn)漏斗口上的小孔．
就此實(shí)驗(yàn)，完成下列填空：
（1）該實(shí)驗(yàn)的正確操作順序是C→F→D→A→B→H→G→E；
（2）上述操作步驟中有一步有錯(cuò)誤，請指出E（填步驟字母編號）；
（3）能選用CCl4從碘水中萃取碘的原因是
A．CCl4與水不互溶            B．CCl4與碘單質(zhì)和水都不反應(yīng)
C．CCl4較常見且常溫下是液體     D．I2在CCl4中溶解度大于在水中的溶解度
（4）上述H步驟操作的目的是操作時(shí)漏斗里液體能夠順利流出；
（5）B步驟中溶液靜置，分層后，溶液下層顯紫紅色；
（6）從含碘的CCl4溶液中提取碘和回收CCl4，還需要經(jīng)過蒸餾，觀察下列實(shí)驗(yàn)裝置有一處錯(cuò)誤請改正：溫度計(jì)下端的水銀球不能插入溶液中應(yīng)使水銀球在蒸餾燒瓶支管口處；冷凝管進(jìn)出水的方向顛倒，水流應(yīng)下進(jìn)上出；加熱燒杯未墊上石棉網(wǎng)，燒杯加熱應(yīng)墊上石棉網(wǎng)；

（7）裝置A中加入碎瓷片的作用防止液體暴沸B裝置的名稱為直型冷凝管，錐形瓶接收的物質(zhì)是四氯化碳．
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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：實(shí)驗(yàn)題

17．利用甲烷與氯氣發(fā)生取代反應(yīng)制取副產(chǎn)品鹽酸的設(shè)想在工業(yè)上已成為現(xiàn)實(shí)．某化學(xué)興趣小組在實(shí)驗(yàn)室中模擬上述過程，其設(shè)計(jì)的模擬裝置如圖：
根據(jù)要求回答：
（1）B裝置有三種功能：①控制氣流速度；②均勻混合氣體；③干燥氣體．
（2）設(shè)V（Cl2）V（CH4）=x，若理論上欲獲得最多的氯化氫，則x值應(yīng)≥4．
（3）D裝置的石棉中均勻混有KI粉末，其作用是能吸收過量的氯氣．寫出其反應(yīng)的離子方程式Cl2+2I-=2Cl-+I2．
（4）E裝置的作用是CD（填序號）．
A．收集氣體B．吸收氯氣C．防止倒吸D．吸收氯化氫
（5）E裝置除生成鹽酸外，還含有有機(jī)物，從E中分離出鹽酸的最佳方法為分液．該裝置還有缺陷，原因是沒有進(jìn)行尾氣處理，其尾氣主要成分為AB（填序號）．
A．CH4B．CH3ClC．CHCl3D．CCl4．
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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：選擇題

14．X、Y、Z是三種短周期元素，原子半徑的大小為：K（Y）＞r（X）＞r（Z），三種元素的原子序數(shù)之和為15；X、Y、Z三種元素的常見單質(zhì)在適當(dāng)條件下可發(fā)生如圖轉(zhuǎn)化關(guān)系，其中 R為10電子分子，是一種常見的無機(jī)溶劑．下列說法中不正確的是（　�。�
A．X元素位于周期表中第16列
B．X、Y、Z元素兩兩之間均能形成原子個(gè)數(shù)比為1：1的化合物
C．X、Y、Z元素形成的單質(zhì)均具有強(qiáng)還原性
D．R的沸點(diǎn)高于M的沸點(diǎn)

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：選擇題

1．下列元素非金屬性最強(qiáng)的是（　　）
A．硅B．磷C．硫D．砷

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：解答題

11．銅版畫的一種制版方法．以瀝青涂于薄銅板表面作防腐膜，用刀刻去防腐膜作畫，然后放在FeCl3腐蝕液中．刮去膜之處被腐蝕，形成凹線．印刷時(shí)凹線可儲油墨，在銅版機(jī)紙壓制下油墨吸于紙上，形成典雅、莊重的銅版畫．
（1）寫出FeCl3腐蝕銅板的離子方程式2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+；
（2）下列措施可以加快銅板的腐蝕速率的有AC（填編號）；
A．加熱B．加氯化銅C．加少量碳粉D．加鹽酸
（3）通常不采用加快腐蝕速率的原因是反應(yīng)速率過快不易控制凹線的質(zhì)量，從而影響版畫的質(zhì)量；
（4）除去瀝青防腐膜后版即形成．可用B除去防腐膜（填編號）；
A．飽和Na2CO3溶液B．煤油C．酸液D．堿液
（5）實(shí)驗(yàn)室用固體氯化鐵配置FeCl3溶液的簡單操作是將固體氯化鐵溶于濃鹽酸中，再加水稀釋；
（6）腐蝕后的廢液（酸性）中加入NaNO3，產(chǎn)生NO氣體，寫出發(fā)生反應(yīng)的離子方程式，并注明電子轉(zhuǎn)移的方向和數(shù)目：；
（7）要驗(yàn)證腐蝕后的廢液中含有Fe3+，可在溶液中加入試劑KSCN溶液，現(xiàn)象溶液呈紅色．
闂傚倸鍊搁崐鎼佸磹閹间礁纾归柟闂寸绾惧綊鏌熼梻瀵割槮缁炬儳缍婇弻锝夊箣閿濆憛鎾绘煕閵堝懎顏柡灞剧洴楠炴﹢鎳犻澶嬓滈梻浣规偠閸斿秶鎹㈤崘顔嘉﹂柛鏇ㄥ灠閸愨偓濡炪倖鍔﹀鈧紒顔煎缁辨挻鎷呴幓鎺嶅濠电姰鍨煎▔娑㈩敄閸曨厽宕查柛鈩冪⊕閻撳繘鏌涢锝囩畺闁革絾妞介弻娑㈡晲閸涱喛纭€缂備浇椴哥敮锟犲箖閳哄懏顥堟繛鎴炲笚閻庝即姊绘担鍛婃儓闁活剙銈稿畷浼村冀椤撶姴绁﹂梺纭呮彧缁犳垹绮诲☉銏♀拻闁割偆鍠撻埊鏇熴亜閺傚灝顏慨濠勭帛閹峰懘宕ㄦ繝鍌涙畼濠电儑绲藉ú锕€顪冩禒瀣櫜闁绘劖娼欑欢鐐烘煙闁箑鍔﹂柨鏇炲€归悡鏇㈡煛閸ャ儱濡奸柣蹇曞У娣囧﹪顢曢敐蹇氣偓鍧楁煛鐏炲墽娲撮柍銉畵楠炲鈹戦崶鈺€澹曠紓鍌氬€风粈渚€顢栭崨顖涘床闁圭増婢橀悡姗€鏌熸潏楣冩闁稿﹦鍏橀弻銈囧枈閸楃偛顫梺鍛婃煥閹诧紕鎹㈠☉姘ｅ亾濞戞瑡缂氶柣顓滃€曢湁婵犲﹤绨肩花缁樸亜閺囶亞绋荤紒缁樼箓椤繈顢橀悢鍓蹭户闂傚倷鑳剁划顖涚仚闁诲繐绻戦悷鈺佺暦閹扮増鍊烽柣鎴炃氶幏娲煟鎼粹剝璐″┑顔炬暬婵℃挳宕橀埡鈧换鍡涙煟閹邦厽缍戞繛鎼枟椤ㄣ儵鎮欏顔煎壉濡炪倧濡囨晶妤呭箚閺冨牊鏅查柛銉╊棑鎼村﹪姊婚崒娆掑厡缂侇噮鍨跺畷婵嬫晝閸屾氨顦┑鐐叉閹稿摜绮堟径鎰厪闁割偅绻冮ˉ鎾趁瑰⿰鍕煁闁靛洤瀚伴獮妯兼崉閻╂帇鍨介弻娑樜熼搹瑙勬喖濡炪們鍔婇崕鐢稿箖濞嗘挸绠甸柟鐑樻尰椤斿嫰姊洪崜褏甯涢柣妤冨█瀵鈽夊Ο閿嬵潔闂佸憡顨堥崑鐐烘倶閸喓绠鹃悗鐢登归宀勬煕濞嗗繐鏆欐い顐㈢箻閹煎綊宕烽鐙呯床婵犳鍠楅〃鍛涘▎鎾村仼闁割偅娲橀埛鎴犵磽娴ｇ櫢渚涙繛鍫熸閺屻劑寮撮妸銈夊仐闂佺粯渚楅崰娑氱不濞戞ǚ妲堟繛鍡樺灥婵悂鏌ｆ惔锛勭暛闁稿骸宕灋鐎光偓閸曨偆顔嗗┑鐐叉▕娴滄繈鍩涢幋锔界厱婵炴垶锕崝鐔虹磼閻樿櫕宕岄柟顔筋殔椤繈鎮℃惔锛勭潉闂備浇妗ㄧ粈浣虹矓閻熼偊鍤曟い鏇楀亾鐎规洘甯掗オ浼村椽閸愵亜绨ラ梻鍌氬€风粈渚€骞栭銈嗗仏妞ゆ劧绠戠壕鍧楁煙閹澘袚闁稿鏅滅换娑橆啅椤旇崵鍑归梺缁樻尰缁嬫垿婀侀梺鎸庣箓閹冲繘骞夐幖浣告瀬闁割偅鎯婇弮鍫熷亹闂傚牊绋愮划璺衡攽閻愬弶鈻曢柛娆忓暣婵″瓨绗熼埀顒€顕ｆ禒瀣垫晣闁绘劙娼ч獮鎰版⒒娴ｅ憡鍟為柛鏃€鍨垮畷婵嗩吋婢跺鈧爼鏌涢鐘插姕闁稿﹦鏁婚幃宄扳枎韫囨搩浠剧紓浣插亾闁告劏鏂傛禍婊堟煏婵炲灝鍔甸棅顒夊墯椤ㄣ儵鎮欑拠褑鍚悗娈垮枙缁瑩銆佸鈧幃娆撴濞戞ḿ顔囬梻鍌氬€风粈渚€骞夐敓鐘茬闁硅揪绠戠粈澶愬箹濞ｎ剙濡肩痪鎯х秺閺屻劑鎮ら崒娑橆伓

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：選擇題

18．分子式為CnH2n+1Cl（ n＞l）的鹵代烴不能發(fā)生消去反應(yīng)，n的最小值是（　　）
A．3B．4C．5D．6

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：選擇題

15．用下列裝置進(jìn)行的實(shí)驗(yàn)，能達(dá)到相應(yīng)實(shí)驗(yàn)?zāi)康氖牵ā　。?br />
A．用裝置①配制一定濃度的硫酸溶液
B．用裝置②分離溶解在CCl4中的 I2
C．用裝置③制備和收集少量 NH3
D．用裝置④驗(yàn)證FeCl3對 H2O2分解有催化作用

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：解答題

1．
工業(yè)生產(chǎn)Na2S常用方法是：無水芒硝（Na2SO4）一碳還原法，其流程示意圖如圖1．
（1）若煅燒階段所得氣體為等物質(zhì)的量CO和CO2．寫出煅燒時(shí)發(fā)生的總反應(yīng)方程式：3Na2SO4+8C△_3Na2S+4CO2↑+4CO↑；
（2）用堿液浸出產(chǎn)品比用熱水更好，理由是：熱水能促進(jìn)Na2S水解，而稀堿可抑制Na2S水解；
（3）廢水中汞常用硫化鈉除去，汞的除去率與溶液pH和硫化鈉實(shí)際用量與理論用量比值X的關(guān)系如圖2所示．為使除汞達(dá)到最佳效果，應(yīng)控制條件是pH介于9～10之間，x=12．
（4）取Na2S（含少量NaOH），加人到CuSO4溶液中，充分?jǐn)嚢�，若反�?yīng)后溶液pH=4，此時(shí)溶液中c（S 2-）=4.0×10-36 mol/L；（保留2位有效數(shù)字）（已知：CuS Ksp=8.8×10-36；Cu（OH）2 Ksp=2.2×10-20）
（5）納米Cu2O常用電解法制備，制備過程用銅棒和石墨棒作電極，Cu（NO3）2作電解液．電解生成Cu2O應(yīng)在陰極；該電極pH將降低（填“升高”，“不變”或“降低”），用電極方程式解釋pH發(fā)生變化的原因：2Cu2++2e-+H2O=Cu2O↓+2H+．
闂傚倸鍊搁崐鎼佸磹閹间礁纾归柟闂寸绾惧綊鏌熼梻瀵割槮缁炬儳缍婇弻锝夊箣閿濆憛鎾绘煕閵堝懎顏柡灞剧洴楠炴﹢鎳犻澶嬓滈梻浣规偠閸斿秶鎹㈤崘顔嘉﹂柛鏇ㄥ灠閸愨偓濡炪倖鍔﹀鈧紒顔煎缁辨挻鎷呴幓鎺嶅濠电姰鍨煎▔娑㈩敄閸曨厽宕查柛鈩冪⊕閻撳繘鏌涢锝囩畺闁革絾妞介弻娑㈡晲閸涱喛纭€缂備浇椴哥敮锟犲箖閳哄懏顥堟繛鎴炲笚閻庝即姊绘担鍛婃儓闁活剙銈稿畷浼村冀椤撶姴绁﹂梺纭呮彧缁犳垹绮诲☉銏♀拻闁割偆鍠撻埊鏇熴亜閺傚灝顏慨濠勭帛閹峰懘宕ㄦ繝鍌涙畼濠电儑绲藉ú锕€顪冩禒瀣櫜闁绘劖娼欑欢鐐烘煙闁箑鍔﹂柨鏇炲€归悡鏇㈡煛閸ャ儱濡奸柣蹇曞У娣囧﹪顢曢敐蹇氣偓鍧楁煛鐏炲墽娲撮柍銉畵楠炲鈹戦崶鈺€澹曠紓鍌氬€风粈渚€顢栭崨顖涘床闁圭増婢橀悡姗€鏌熸潏楣冩闁稿﹦鍏橀弻銈囧枈閸楃偛顫梺鍛婃煥閹诧紕鎹㈠☉姘ｅ亾濞戞瑡缂氶柣顓滃€曢湁婵犲﹤绨肩花缁樸亜閺囶亞绋荤紒缁樼箓椤繈顢橀悢鍓蹭户闂傚倷鑳剁划顖涚仚闁诲繐绻戦悷鈺佺暦閹扮増鍊烽柣鎴炃氶幏娲煟鎼粹剝璐″┑顔炬暬婵℃挳宕橀埡鈧换鍡涙煟閹邦厽缍戞繛鎼枟椤ㄣ儵鎮欏顔煎壉濡炪倧濡囨晶妤呭箚閺冨牊鏅查柛銉╊棑鎼村﹪姊婚崒娆掑厡缂侇噮鍨跺畷婵嬫晝閸屾氨顦┑鐐叉閹稿摜绮堟径鎰厪闁割偅绻冮ˉ鎾趁瑰⿰鍕煁闁靛洤瀚伴獮妯兼崉閻╂帇鍨介弻娑樜熼搹瑙勬喖濡炪們鍔婇崕鐢稿箖濞嗘挸绠甸柟鐑樻尰椤斿嫰姊洪崜褏甯涢柣妤冨█瀵鈽夊Ο閿嬵潔闂佸憡顨堥崑鐐烘倶閸喓绠鹃悗鐢登归宀勬煕濞嗗繐鏆欐い顐㈢箻閹煎綊宕烽鐙呯床婵犳鍠楅〃鍛涘▎鎾村仼闁割偅娲橀埛鎴犵磽娴ｇ櫢渚涙繛鍫熸閺屻劑寮撮妸銈夊仐闂佺粯渚楅崰娑氱不濞戞ǚ妲堟繛鍡樺灥婵悂鏌ｆ惔锛勭暛闁稿骸宕灋鐎光偓閸曨偆顔嗗┑鐐叉▕娴滄繈鍩涢幋锔界厱婵炴垶锕崝鐔虹磼閻樿櫕宕岄柟顔筋殔椤繈鎮℃惔锛勭潉闂備浇妗ㄧ粈浣虹矓閻熼偊鍤曟い鏇楀亾鐎规洘甯掗オ浼村椽閸愵亜绨ラ梻鍌氬€风粈渚€骞栭銈嗗仏妞ゆ劧绠戠壕鍧楁煙閹澘袚闁稿鏅滅换娑橆啅椤旇崵鍑归梺缁樻尰缁嬫垿婀侀梺鎸庣箓閹冲繘骞夐幖浣告瀬闁割偅鎯婇弮鍫熷亹闂傚牊绋愮划璺衡攽閻愬弶鈻曢柛娆忓暣婵″瓨绗熼埀顒€顕ｆ禒瀣垫晣闁绘劙娼ч獮鎰版⒒娴ｅ憡鍟為柛鏃€鍨垮畷婵嗩吋婢跺鈧爼鏌涢鐘插姕闁稿﹦鏁婚幃宄扳枎韫囨搩浠剧紓浣插亾闁告劏鏂傛禍婊堟煏婵炲灝鍔甸棅顒夊墯椤ㄣ儵鎮欑拠褑鍚悗娈垮枙缁瑩銆佸鈧幃娆撴濞戞ḿ顔囬梻鍌氬€风粈渚€骞夐敓鐘茬闁硅揪绠戠粈澶愬箹濞ｎ剙濡肩痪鎯х秺閺屻劑鎮ら崒娑橆伓

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同步練習(xí)冊答案
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