海戰(zhàn)中為了掩蔽，常噴放SiCl4和液氨，而形成很濃的煙霧，若煙霧的成分是H2SiO3小顆粒和NH4Cl晶粒及水霧等，試寫出生成它們的化學(xué)方程式。_________________________________________

思路解析：從題干中的信息可知，反應(yīng)物應(yīng)該有SiCl4和液氨，生成物則是H2SiO3和NH4Cl及H2O，將方程中的反應(yīng)物和生成物寫出來，然后配平即得。

答案：3H2O +SiCl4+4NH3H2SiO3+4NH4Cl。


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科目：高中化學(xué) 來源：黃岡重點作業(yè)　高一化學(xué)（下） 題型：022

四氯化硅不穩(wěn)定，遇水會生成硅酸和氯化氫．現(xiàn)代海戰(zhàn)中為了進(jìn)行掩蔽，常噴放四氯化硅和液氨，形成很濃的煙幕．形成煙幕的原因是________，有關(guān)化學(xué)反應(yīng)方程式是________．

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：022

四氯化硅不穩(wěn)定，遇水會發(fā)生水解反應(yīng)生成硅酸和氯化氫�，F(xiàn)代海戰(zhàn)中為了進(jìn)行目標(biāo)掩蔽，常噴放四氯化硅和液氨，這樣做的原因是________。有關(guān)化學(xué)反應(yīng)方程式是________。

 

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科目：高中化學(xué) 來源：物理教研室 題型：022

四氯化硅不穩(wěn)定，遇水會發(fā)生水解反應(yīng)生成硅酸和氯化氫�，F(xiàn)代海戰(zhàn)中為了進(jìn)行目標(biāo)掩蔽，常噴放四氯化硅和液氨，這樣做的原因是________。有關(guān)化學(xué)反應(yīng)方程式是________。

 

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科目：高中化學(xué) 來源： 題型：

海戰(zhàn)中為了掩蔽，常噴放SiCl4和液氨，而形成很濃的煙霧，若煙霧的成分是H2SiO3小顆粒和NH4Cl晶粒及水霧等，試寫出生成它們的化學(xué)方程式。_________________________________________

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