Question

下列反應(yīng)離子方程式正確的是（　�。�

• A、FeCl₃ 溶液刻蝕銅制的印刷電路板：Fe³⁺+Cu=Fe²⁺+Cu²⁺
• B、硅酸鈉溶液和稀硫酸混合：Na₂SiO₃+2H⁺=H₂SiO₃↓+2Na⁺
• C、Ba（OH）₂ 溶液與稀硫酸反應(yīng)：Ba²⁺+OH^-+H⁺+SO₄^2-=BaSO₄↓+H₂O
• D、向氯化鋁溶液中滴加過(guò)量氨水：Al³⁺+3NH₃?H₂O=Al（OH）₃↓+3NH₄⁺

Answer 1

考點(diǎn)：離子方程式的書(shū)寫(xiě)

專題：離子反應(yīng)專題

分析：A．電子、電荷不守恒；
B．硅酸鈉完全電離；
C．不符合離子的配比；
D．反應(yīng)生成氫氧化鋁和氯化銨．

解答： 解：A．FeCl₃ 溶液刻蝕銅制的印刷電路板的離子反應(yīng)為2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺，故A錯(cuò)誤；
B．硅酸鈉溶液和稀硫酸混合的離子反應(yīng)為SiO₃^2-+2H⁺=H₂SiO₃↓，故B錯(cuò)誤；
C．Ba（OH）₂ 溶液與稀硫酸反應(yīng)的離子反應(yīng)為Ba²⁺+2OH^-+2H⁺+SO₄^2-=BaSO₄↓+2H₂O，故C錯(cuò)誤；
D．向氯化鋁溶液中滴加過(guò)量氨水的離子反應(yīng)為Al³⁺+3NH₃?H₂O=Al（OH）₃↓+3NH₄⁺，故D正確；
故選D．

點(diǎn)評(píng)：本題考查離子反應(yīng)方程式書(shū)寫(xiě)的正誤判斷，為高頻考點(diǎn)，把握發(fā)生的反應(yīng)及離子反應(yīng)的書(shū)寫(xiě)方法為解答的關(guān)鍵，側(cè)重氧化還原反應(yīng)、復(fù)分解反應(yīng)的離子反應(yīng)考查，綜合性較強(qiáng)，題目難度不大．