【題目】下列反應的離子方程式書寫不正確的是( )

A. 二氧化硅與強堿溶液反應：SiO2+2OH―＝SiO32―+H2O

B. 氯水與SO2溶液反應：Cl2+SO2+2H2O＝4H++ClO―+SO32―

C. 二氧化錳與濃鹽酸反應：MnO2+4H++2Cl―===Mn2++2H2O+Cl2↑

D. 氫氧化鈣溶液與等物質(zhì)的量稀硫酸混合：Ca2＋＋2OH－＋2H＋＋＝CaSO4↓＋2H2O

【答案】B

【解析】

A.二氧化硅與氫氧化鈉反應生成硅酸鈉和水，離子方程式為：SiO2+2OH-=SiO32-+H2O，故A正確；

B.向氯水中通入SO2氣體，離子方程式：Cl2+SO2+2H2O═4H++2Cl-+SO42-，故B錯誤；

C.用濃鹽酸與MnO2反應制Cl2的離子方程式為：MnO2+4H++2Cl-Cl2↑+Mn2++2H2O，故C正確；

D.氫氧化鈣溶液與等物質(zhì)的量的稀硫酸混合的離子反應為Ca2++2OH-+2H++SO42-=CaSO4↓+2H2O，故D正確。

故選B。

練習冊系列答案
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A.H2(l)＋F2(l)===2HF(g) ΔH1

B.H2(g)＋F2(g)===2HF(g) ΔH2

C.H2(g)＋F2(g)===2HF(l) ΔH3

D.H2(l)＋F2(l)===2HF(l) ΔH4

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【題目】高聚物 H 可用于光刻工藝中，作抗腐蝕涂層。下列是高聚物 H 的一種合成路線：

已知：①D 屬于高分子化合物；

請回答下列問題：

(1)A 的化學名稱為 ____。

(2)B 中含氧官能團的名稱是 ____。

(3)由 A 生成 B 和 Y 生成 E 的反應類型分別為_________ 。

(4)由 F 生成 G 的化學方程式為_____ 。

(5)H 的結(jié)構(gòu)簡式為_____。

(6)只有一種官能團的芳香化合物 W 是 G 的同分異構(gòu)體，W 能發(fā)生銀鏡反應，其中核磁共振氫譜為四組峰，峰面積 比為 3∶2∶2∶1 的結(jié)構(gòu)簡式為_____。

(7)參照上述合成路線，設計由對二甲苯和乙酸為原料制備 的合成路線(無機 試劑任選) ____。

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