下列關(guān)于SiO2和CO2的敘述中不正確的是(  )。
A.都是共價(jià)化合物
B.SiO2可用于制光導(dǎo)纖維,干冰可用于人工降雨
C.都能溶于水且與水反應(yīng)生成相應(yīng)的酸
D.都是酸性氧化物,都能與強(qiáng)堿溶液反應(yīng)
C
SiO2和CO2中都只含有共價(jià)鍵,均為共價(jià)化合物,A項(xiàng)正確;干冰升華吸熱,可用于人工降雨,B項(xiàng)正確;SiO2不能與水反應(yīng),C項(xiàng)錯(cuò)誤;SiO2與強(qiáng)堿溶液反應(yīng)生成硅酸鹽,CO2與強(qiáng)堿溶液反應(yīng)生成碳酸鹽或碳酸氫鹽,D項(xiàng)正確。
練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:問答題

某校課外活動(dòng)小組為探究銅與稀硝酸反應(yīng)產(chǎn)生的氣體主要是NO,設(shè)計(jì)了下列實(shí)驗(yàn).圖中K為止水夾,F(xiàn)是裝有一半空氣的注射器,其中加熱裝置和固定裝置均已略去.

請回答有關(guān)問題:
(1)設(shè)計(jì)裝置A的目的是______.
(2)當(dāng)完成裝置A的實(shí)驗(yàn)?zāi)康暮,關(guān)閉K,再將裝置B中的銅絲插入稀硝酸.B中反應(yīng)的離子方程式是______.
(3)將F中的空氣推入E中,證明NO存在的實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象是______,此過程發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式是______.
(4)裝置D中NaOH溶液的作用是______.

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

下列塊狀單質(zhì)在常溫時(shí),能全部溶于足量的濃硝酸的是( 。
A.CB.AgC.PtD.Fe

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:填空題

硅是重要的半導(dǎo)體材料,構(gòu)成了現(xiàn)代電子工業(yè)的基礎(chǔ);卮鹣铝袉栴}:
(1)基態(tài)Si原子中,電子占據(jù)的最高能層符號(hào)       ,該能層具有的原子軌道數(shù)為      、電子數(shù)為         。
(2)硅主要以硅酸鹽、       等化合物的形式存在于地殼中。
(3)單質(zhì)硅存在與金剛石結(jié)構(gòu)類似的晶體,其中原子與原子之間以        相結(jié)合,其晶胞中共有8個(gè)原子,其中在面心位置貢獻(xiàn)       個(gè)原子。
(4)單質(zhì)硅可通過甲硅烷(SiH4)分解反應(yīng)來制備。工業(yè)上采用Mg2Si和NH4CI在液氨介質(zhì)中反應(yīng)制得SiH4,該反應(yīng)的化學(xué)方程式為              。
(5)碳和硅的有關(guān)化學(xué)鍵鍵能如下所示,簡要分析和解釋下列有關(guān)事實(shí):
化學(xué)鍵
C-C
C-H
C-O
Si-Si
Si-H
Si-O
鍵能(KJ/mol)
356
413
336
226
318
452
①硅與碳同族,也有系列氫化物,但硅烷在種類和數(shù)量上都遠(yuǎn)不如烷烴多,原因是                。
②SiH4的穩(wěn)定性小于CH4,更易生成氧化物,原因是                       。
(6)在硅酸鹽中,SiO44四面體(如下圖a)通過共用頂角氧離子可形成島狀、鏈狀、層狀、骨架網(wǎng)狀四大類結(jié)構(gòu)型式。圖b為一種無限長單鏈結(jié)構(gòu)的多硅酸根;其中Si原子的雜化形式為            。Si與O的原子數(shù)之比為       化學(xué)式為   。

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:實(shí)驗(yàn)題

晶體硅是一種重要的非金屬材料,制備純硅的主要步驟如下:
①高溫下用過量的碳還原二氧化硅制得粗硅,同時(shí)得到一種可燃性氣體;
②粗硅與干燥的HCl氣體反應(yīng)制得SiHCl3(Si+3HClSiHCl3+H2);
③SiHCl3與過量的H2在1 100~1 200 ℃的溫度下反應(yīng)制得純硅,已知SiHCl3能與水劇烈反應(yīng),在空氣中易自燃。
請回答:
(1)第一步制取粗硅的化學(xué)反應(yīng)方程式為                        。
(2)粗硅與HCl氣體反應(yīng)完全后,經(jīng)冷凝得到的SiHCl3(沸點(diǎn)33.0 ℃)中含有少量SiCl4(沸點(diǎn)57.6 ℃)和HCl(沸點(diǎn)-84.7 ℃),提純SiHCl3采用的方法為                      
(3)實(shí)驗(yàn)室用SiHCl3與過量的H2反應(yīng)制取純硅裝置如圖所示(加熱和夾持裝置略去):

①裝置B中的試劑是      ,裝置C中的燒杯需要加熱,目的是                    。
②反應(yīng)一段時(shí)間后,裝置D中觀察到的現(xiàn)象是                               ,裝置D不能采用普通玻璃管的原因是                              ,裝置D中發(fā)生反應(yīng)的化學(xué)方程式是                               
③為保證制備純硅實(shí)驗(yàn)的成功,操作的關(guān)鍵是檢查實(shí)驗(yàn)裝置的氣密性,控制好反應(yīng)溫度以及                               

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

2013年我國載人飛船再次升空,顯示出我國航天技術(shù)已進(jìn)入世界一流。飛船應(yīng)用了許多尖端的合成材料。據(jù)報(bào)道我國科學(xué)家近年來研制出一種新型“連續(xù)纖維增韌”航空材料,其主要成分是由碳化硅陶瓷和碳纖維復(fù)合而成的。下列相關(guān)敘述不正確的是(  )。
A.它耐高溫抗氧化
B.它比鋼鐵輕、硬,但質(zhì)地較脆
C.它沒有固定熔點(diǎn)
D.它是一種新型無機(jī)非金屬材料

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:填空題

氮化硅可用作高溫陶瓷復(fù)合材料,在航空航天、汽車發(fā)動(dòng)機(jī)、機(jī)械等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。由石英砂合成氮化硅粉末的路線如下圖所示:

其中-NH2中各元素的化合價(jià)與NH3相同。請回答下列問題:
(1)石英砂不能與堿性物質(zhì)共同存放,以NaOH為例,用化學(xué)反應(yīng)方程式表示其原因:                                                             
(2)圖示①~⑤的變化中,屬于氧化還原反應(yīng)的是                         。(3)SiCl4在潮濕的空氣中劇烈水解,產(chǎn)生白霧,軍事工業(yè)中用于制造煙霧劑。SiCl4水解的化學(xué)反應(yīng)方程式為                                              。
(4)在反應(yīng)⑤中,3 mol Si(NH2)4,在高溫下加熱可得1 mol氮化硅粉末和8 mol A氣體,則氮化硅的化學(xué)式為                                            。
(5)在高溫下將SiCl4在B和C兩種氣體的氣氛中,也能反應(yīng)生成氮化硅,B和C兩種氣體在一定條件下化合生成A。寫出SiCl4與B和C兩種氣體反應(yīng)的化學(xué)方程式                     。

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

下列物品或設(shè)備:①水泥路;②門窗玻璃;③水晶鏡片;④石英鐘表;⑤瑪瑙手鐲;⑥硅太陽能電池;⑦光導(dǎo)纖維;⑧計(jì)算機(jī)芯片。所用材料含有SiO2的(  )。
A.①②③④⑤⑦B.①②⑦⑧C.⑥⑧D.全部

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科目:高中化學(xué) 來源:不詳 題型:單選題

高嶺土中[Al2(Si2O5)(OH)4]中SiO2的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為
A.46.5%B.23.3%C.21.7%D.35.7%

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同步練習(xí)冊答案