下列反應(yīng)的離子方程式中,正確的是(雙選)( )
A.二氧化硅和氫氟酸反應(yīng):SiO2+4H+===Si4++2H2O
B.二氧化硅和氫氧化鉀溶液反應(yīng):SiO2+2OH-===SiO+H2O
C.水玻璃中滴入鹽酸:SiO+2H+===H2SiO3↓
D.碳酸鋇滴加稀硝酸:CO+2H+===H2O+CO2↑
科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
右圖是在航天用高壓氫鎳電池基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種金屬氫化物鎳電池(MH-Ni電池)。下列有關(guān)說法不正確的是
A.放電時正極反應(yīng)為:NiOOH+H2O+e-→Ni(OH)2+OH-
B.電池的電解液可為KOH溶液
C.充電時負(fù)極反應(yīng)為:MH+OH-→+H2O+M+e-
D.MH是一類儲氫材料,其氫密度越大,電池的能量密度越高
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
化學(xué)與生活、社會密切相關(guān),下列說法錯誤的是
A.過氧化鈉可作航天員和潛水員的供氧劑
B.干冰和碘化銀均可用于人工降雨
C.近年來出現(xiàn)的城市霧霾與汽車尾氣的排放無關(guān)
D.高鐵車廂大部分材料采用鋁合金,因為鋁合金強度大、質(zhì)量輕、抗腐蝕能力強
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制
得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度為450℃~500℃),四氯化硅
經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置圖:
相關(guān)信息如下:
①四氯化硅遇水極易水解
②硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物
③有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:
物質(zhì) | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸點/℃ | 57.7 | 12.8 | — | 315 | — |
熔點/℃ | -70.0 | -107.2 | — | — | — |
升華溫度/℃ | — | — | 180 | 300 | 162 |
請回答下列問題:
(1)裝置A中g(shù)管的作用是 ;裝置C中的試劑是 。
(2)甲方案:f接裝置Ⅰ;乙方案:f接裝置Ⅱ。但是裝置Ⅰ、Ⅱ都有不足之處,請你評價后填寫下表。
方案 | 優(yōu)點 | 缺點 |
甲 | ||
乙 |
(3)在上述(2)的評價基礎(chǔ)上,請你設(shè)計一個合理方案并用文字表述: 。
(4)SiCl4與H2反應(yīng)的化學(xué)方程式為 。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
下列說法錯誤的是( )
A.二氧化硅是光導(dǎo)纖維的主要原料
B.硅是信息技術(shù)的關(guān)鍵材料
C.陶瓷餐具所用材料為硅酸鹽
D.水晶鏡片所用原料為硅酸鹽
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
向一定濃度的下列物質(zhì)澄清溶液中通入過量的CO2氣體,最后肯定沒有沉淀生成的是 ( )
①Ca(OH)2、贜a2CO3、跜aCl2、蹸a(ClO)2
A.①③④ B.②③④ C.①②③ D.①②③④
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
如圖所示物質(zhì)的轉(zhuǎn)化關(guān)系中,A是一種固體單質(zhì),E是一種白色沉淀。
請回答下列問題:
(1)B的化學(xué)式是____________,目前B已被用作________的主要原料。
(2)B和a溶液反應(yīng)的離子方程式是___________________________________。
(3)A和a溶液反應(yīng)的離子方程式是___________________________________。
(4)C和過量的鹽酸反應(yīng)的離子方程式是_______________________________。
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
一定溫度下在密閉容器內(nèi)進(jìn)行著某一反應(yīng),X氣體、Y氣體的物質(zhì)的量隨反應(yīng)時
間變化的曲線如右圖。下列敘述中正確的是( )
A.反應(yīng)的化學(xué)方程式為5YX
B.t1時,Y的濃度是X濃度的1.5倍
C.t2時,正、逆反應(yīng)速率相等
D.t3時,逆反應(yīng)速率大于正反應(yīng)速率
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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:
下列除雜方案錯誤的是
選項 | 被提純的物質(zhì) | 雜質(zhì) | 除雜試劑 | 除雜方法 |
A | CO(g) | CO2(g) | NaOH 溶液、濃 H2SO4 | 洗氣 |
B | NH4Cl(aq) | Fe3+(aq) | NaOH溶液 | 過濾 |
C | Cl2(g) | HCl(g) | 飽和食鹽水、濃H2SO4 | 洗氣 |
D | Na2CO3(s) | NaHCO3(s) | — | 灼燒 |
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