下列反應(yīng)的離子方程式中,正確的是(雙選)(  )

A.二氧化硅和氫氟酸反應(yīng):SiO2+4H===Si4+2H2O

B.二氧化硅和氫氧化鉀溶液反應(yīng):SiO2+2OH===SiO+H2O

C.水玻璃中滴入鹽酸:SiO+2H===H2SiO3

D.碳酸鋇滴加稀硝酸:CO+2H===H2O+CO2

練習(xí)冊系列答案
相關(guān)習(xí)題

科目:高中化學(xué) 來源: 題型:


右圖是在航天用高壓氫鎳電池基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種金屬氫化物鎳電池(MH-Ni電池)。下列有關(guān)說法不正確的是

A.放電時正極反應(yīng)為:NiOOH+H2O+e→Ni(OH)2+OH

B.電池的電解液可為KOH溶液

C.充電時負(fù)極反應(yīng)為:MH+OH→+H2O+M+e

D.MH是一類儲氫材料,其氫密度越大,電池的能量密度越高

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化學(xué)與生活、社會密切相關(guān),下列說法錯誤的是

   A.過氧化鈉可作航天員和潛水員的供氧劑

   B.干冰和碘化銀均可用于人工降雨

   C.近年來出現(xiàn)的城市霧霾與汽車尾氣的排放無關(guān)

D.高鐵車廂大部分材料采用鋁合金,因為鋁合金強度大、質(zhì)量輕、抗腐蝕能力強

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:


單晶硅是信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎(chǔ)材料。通常用碳在高溫下還原二氧化硅制

得粗硅(含鐵、鋁、硼、磷等雜質(zhì)),粗硅與氯氣反應(yīng)生成四氯化硅(反應(yīng)溫度為450℃~500℃),四氯化硅

經(jīng)提純后用氫氣還原可得高純硅。以下是實驗室制備四氯化硅的裝置圖:

相關(guān)信息如下:

①四氯化硅遇水極易水解

②硼、鋁、鐵、磷在高溫下均能與氯氣直接反應(yīng)生成相應(yīng)的氯化物

③有關(guān)物質(zhì)的物理常數(shù)見下表:

物質(zhì)

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸點/℃

57.7

12.8

315

熔點/℃

-70.0

-107.2

升華溫度/℃

180

300

162

請回答下列問題:

(1)裝置A中g(shù)管的作用是               ;裝置C中的試劑是          。

(2)甲方案:f接裝置Ⅰ;乙方案:f接裝置Ⅱ。但是裝置Ⅰ、Ⅱ都有不足之處,請你評價后填寫下表。

方案

      優(yōu)點    

缺點

(3)在上述(2)的評價基礎(chǔ)上,請你設(shè)計一個合理方案并用文字表述:                    。

(4)SiCl4與H2反應(yīng)的化學(xué)方程式為                    。

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下列說法錯誤的是(  )

A.二氧化硅是光導(dǎo)纖維的主要原料

B.硅是信息技術(shù)的關(guān)鍵材料

C.陶瓷餐具所用材料為硅酸鹽

D.水晶鏡片所用原料為硅酸鹽

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向一定濃度的下列物質(zhì)澄清溶液中通入過量的CO2氣體,最后肯定沒有沉淀生成的是   (  )

①Ca(OH)2、贜a2CO3、跜aCl2、蹸a(ClO)2

A.①③④        B.②③④       C.①②③       D.①②③④

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如圖所示物質(zhì)的轉(zhuǎn)化關(guān)系中,A是一種固體單質(zhì),E是一種白色沉淀。

請回答下列問題:

(1)B的化學(xué)式是____________,目前B已被用作________的主要原料。

(2)B和a溶液反應(yīng)的離子方程式是___________________________________。

(3)A和a溶液反應(yīng)的離子方程式是___________________________________。

(4)C和過量的鹽酸反應(yīng)的離子方程式是_______________________________。

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科目:高中化學(xué) 來源: 題型:


一定溫度下在密閉容器內(nèi)進(jìn)行著某一反應(yīng),X氣體、Y氣體的物質(zhì)的量隨反應(yīng)時

間變化的曲線如右圖。下列敘述中正確的是(  )

                       

A.反應(yīng)的化學(xué)方程式為5YX

B.t1時,Y的濃度是X濃度的1.5倍

C.t2時,正、逆反應(yīng)速率相等

D.t3時,逆反應(yīng)速率大于正反應(yīng)速率

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下列除雜方案錯誤的是

選項

被提純的物質(zhì)

雜質(zhì)

除雜試劑

除雜方法

A

CO(g)

CO2(g)

NaOH 溶液、濃 H2SO4

洗氣

B

NH4Cl(aq)

Fe3(aq)

NaOH溶液

過濾

C

Cl2(g)

HCl(g)

飽和食鹽水、濃H2SO4

洗氣

D

Na2CO3(s)

NaHCO3(s)

灼燒

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