Question

【題目】現(xiàn)有如圖所示的轉(zhuǎn)化關系，水和部分產(chǎn)物已略去。

已知：①X和Z是兩種透明、不溶于水的堅硬固體，其中Z無固定熔點，是現(xiàn)代建筑不可缺少的裝飾和采光材料；②無色氣體A是引起溫室效應的主要氣體；

③B、D均為難溶于水的白色固體；④高純度的F是使用最廣泛的半導體材料。

據(jù)此回答下列問題：

（1）Z的名稱是________，工藝師在Z表面刻蝕花紋圖案需用的試劑為________(填名稱)。

（2）由X、Y制F的化學方程式為________________________，此反應中Y作________劑(填“氧化”或“還原”)。

（3）轉(zhuǎn)化①的化學方程式為________________________；轉(zhuǎn)化②(A少量)的離子方程式為______________________。

Answer 1

【答案】玻璃 氫氟酸 SiO2+2CO2CO2+Si 還原 SiO2＋2NaOH===Na2SiO3＋H2O SiO＋CO2＋H2O===H2SiO3↓＋CO

【解析】

①X為不溶于水的堅硬固體，Z無固定熔點，是現(xiàn)代建筑中不可缺少的裝飾材料，判斷為玻璃，說明X為SiO2；

②無色氣體A是引起溫室效應的主要氣體為CO2；

③B、D均為難溶于水的白色固體，流程分析可知B為CaCO3，；

④高純度的F是制造電腦芯片的一種非金屬單質(zhì)為Si；

結(jié)合流程分析判斷可知X為SiO2，B為CaCO3，C為Na2SiO3，D為H2SiO3，E為Na2CO3，Z為玻璃，Y為CO，F(xiàn)為Si．

由以上（1）Z無固定熔點，是現(xiàn)代建筑中不可缺少的裝飾材料，判斷為玻璃；工藝師在Z表面刻蝕花紋圖案需用的試劑為氫氟酸。

（2）由X、Y制F的過程為SiO2+2CO2CO2+Si，CO做還原劑。

（3）轉(zhuǎn)化①的化學方程式為SiO2＋2NaOH===Na2SiO3＋H2O ；無色氣體A是引起溫室效應的主要氣體，則A為CO2，轉(zhuǎn)化②(A少量)的離子方程式為SiO＋CO2＋H2O===H2SiO3↓＋CO。