用石英與焦炭制取硅的反應中,氧化產(chǎn)物與還原產(chǎn)物的物質的量之比為


  1. A.
    2∶1
  2. B.
    1∶2
  3. C.
    1∶1
  4. D.
    3∶2
練習冊系列答案
相關習題

科目:高中化學 來源: 題型:

【化學一選修2化學與技術】
晶體硅是信息科學和能源科學中的一種重要材料,可用于制芯片和太陽能電池等.以下是工業(yè)上制取純硅的一種方法.
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請回答下列問題(各元素用相應的元素符號表示):
(1)在上述生產(chǎn)過程中,屬于置換反應的有
 
(填反應代號).
(2)利用反應③能制得純硅的原因是
 

(3)化合物W的用途很廣,通?捎米鹘ㄖI(yè)和造紙工業(yè)的黏合劑,可作肥皂的填充劑,是天然水的軟化劑.將石英砂和純堿按一定比例混合加熱至1373~1623K反應,生成化合物W,其化學方程式是
 

(4)A、B、C三種氣體在生產(chǎn)過程中可循環(huán)使用的是
 
(寫化學式);在“節(jié)能減排”中作為減排目標的一種氣體是
 
(寫化學式);分別通入W溶液中能得到白色沉淀的氣體是
 
(寫化學式).
(5)工業(yè)上合成氨的原料H2是先將焦炭與水蒸氣反應生成水煤氣,再提純水煤氣得到純凈的H2,提純水煤氣得到純凈的H2的化學方程式為
 
、
 
、
 

(6)反應生成的氣體只是A而不是B的原因是
 

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科目:高中化學 來源: 題型:

硅在材料王國中具有舉足輕重的位置.請解答下列試題:
(1)硅的制備方法是制約太陽能發(fā)展的瓶頸,硅的制備原料是石英砂,石英與焦炭在高溫電爐中反應可以制得硅.該反應的化學方程式是
 
,該反應的氣體產(chǎn)物是一氧化碳,不是二氧化碳,其原因是
 

(2)氮化硅Si3N4是一種高溫結構材料,粉末狀態(tài)的Si3N4可以由SiCl4的蒸氣和NH3反應制取.粉末狀Si3N4對空氣和水都不穩(wěn)定.但將粉末狀的Si3N4和適量氧化鎂在230×1.01×l05Pa和185℃的密閉容器中熱處理,可以制得結構十分緊密、對空氣和水都相當穩(wěn)定的固體材料,同時還得到對水不穩(wěn)定的Mg3N2
①寫出由SiCl4和NH3反應制取Si3N4的化學反應方程式
 
;
②現(xiàn)用四氯化硅和氮氣在氫氣氣氛保護下,加強熱發(fā)生反應,使生成的Si3N4沉積在石墨表面可得較高純度的氮化硅,該制造方法稱為:
 
;反應的化學方程式為
 
;該法還可制造金剛石薄膜,反應的化學方程式為
 

③在Si3N4和適量氧化鎂在230×1.01×105 Pa和185℃的密閉容器中熱處理的過程中,除生成Mg3N2外,還可能生成
 
物質.熱處理后除去MgO和Mg3N2的方法是
 

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科目:高中化學 來源:遼寧省大連市2012屆高三雙基測試化學試題 題型:022

硅在材料王國中具有舉足輕重的位置.請解答下列試題:

(1)硅的制備方法是制約太陽能發(fā)展的瓶頸,硅的制備原料是石英砂,石英與焦炭在高溫電爐中反應可以制得硅.該反應的化學方程式是________,該反應的氣體產(chǎn)物是一氧化碳,不是二氧化碳,其原因是________.

(2)氮化硅Si3N4是一種高溫結構材料,粉末狀態(tài)的Si3N4可以由SiCl4的蒸氣和NH3反應制取.粉末狀Si3N4對空氣和水都不穩(wěn)定.但將粉末狀的Si3N4和適量氧化鎂在230×1.01×105 Pa和185℃的密閉容器中熱處理,可以制得結構十分緊密、對空氣和水都相當穩(wěn)定的固體材料,同時還得到對水不穩(wěn)定的Mg3N2

①寫出由SiCl4和NH3反應制取Si3N4的化學反應方程式________;

②現(xiàn)用四氯化硅和氮氣在氫氣氣氛保護下,加強熱發(fā)生反應,使生成的Si3N4沉積在石墨表面可得較高純度的氮化硅,該制造方法稱為:________;反應的化學方程式為________;該法還可制造金剛石薄膜,反應的化學方程式為________.

③在Si3N4和適量氧化鎂在230×1.01×105 Pa和185℃的密閉容器中熱處理的過程中,除生成Mg3N2外,還可能生成________物質.熱處理后除去MgO和Mg3N2的方法是________.

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科目:高中化學 來源: 題型:單選題

閱讀下文,回答問題.硅晶體結構、性質、用途均類似于金剛石,如刻劃玻璃,低溫下單質硅不活潑,與氧氣、水、酸均不反應;與強堿和強氧化劑在適當溫度下作用,如硅與鹵素在加熱或高溫下生成四鹵化硅;高價態(tài)硅的化合物可在高溫下被碳、鎂、氫等還原劑還原成單質硅;工業(yè)上也可以在高溫下用硅石與炭作用制金剛砂(SiC),某純硅煉制廠利用天然氣、食鹽、石英為原料制取用作半導體材料的純硅(含硅99.99%以上).該廠家不采用石英與焦炭直接制取高純硅的主要原因是


  1. A.
    產(chǎn)量太低
  2. B.
    產(chǎn)品中含SiC
  3. C.
    產(chǎn)品中含過量的硅石或炭
  4. D.
    耗能太大

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