Question

【題目】實驗室用H2還原SiHCl3（沸點：31.85℃）制備純硅的裝置如圖所示（夾持裝置和尾氣處理裝置略去）,下列說法正確的是（ ）

A. 裝置Ⅱ、Ⅲ中依次盛裝的是濃H2SO4、冰水

B. 實驗時，應(yīng)先加熱管式爐，再打開盛裝稀硫酸的分液漏斗

C. 為鑒定制得的硅中是否含微量鐵單質(zhì)，需要用到的試劑為鹽酸、雙氧水、硫氰化鉀溶液

D. 該實驗中制備氫氣的裝置也可用于氧氧化鈉稀溶液與氯化銨固體反應(yīng)制備氨氣

Answer 1

【答案】C

【解析】本題制備晶體硅，H2＋SiHCl3Si＋3HCl，此反應(yīng)應(yīng)在IV裝置中進(jìn)行，A、裝置I的目的是制備氫氣，氫氣中含有水蒸氣，對后續(xù)實驗產(chǎn)生干擾，必須除去，因此裝置II的目的是除去氫氣中的水蒸氣，即II中盛放濃硫酸，III的提供SiHCl3氣體，因此在水浴中加熱，故A錯誤；B、應(yīng)先通入氫氣，目的是排除裝置中的空氣，防止發(fā)生危險，故B錯誤；C、硅不與鹽酸反應(yīng)，鐵與鹽酸反應(yīng)生成Fe2＋，F(xiàn)e2＋被H2O2氧化成Fe3＋，與KSCN溶液變紅，可以鑒定是否含有鐵單質(zhì)，故C正確；D、用NaOH溶液制備氨氣，需要加熱或NaOH溶液為濃溶液，I裝置中沒有加熱裝置，且NaOH溶液為稀溶液，因此此裝置不能制備氨氣，故D錯誤。